[實用新型]一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機有效
| 申請號： | 201220362016.3 | 申請日： | 2012-07-25 |
| 公開（公告）號： | CN202839710U | 公開（公告）日： | 2013-03-27 |
| 發明（設計）人： | 王虎;姚琪;陸波;邱小永 | 申請（專利權）人： | 浙江貝盛光伏股份有限公司 |
| 主分類號： | H01L31/18 | 分類號： | H01L31/18;H01L21/306 |
| 代理公司： | 湖州金衛知識產權代理事務所(普通合伙) 33232 | 代理人： | 裴金華 |
| 地址： | 313000 浙江省*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 具有 噴霧 功能 濕法 刻蝕 | ||
1.一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，所述濕法刻蝕機包括刻蝕機臺和設置于刻蝕機臺上用于傳送硅片（1）的滾輪（2），所述刻蝕機臺上方設置有噴水裝置（3），其特征在于：所述刻蝕機臺上方位于噴水裝置（3）與硅片（1）傳送方向相反的一側設置有噴霧裝置（4），所述噴霧裝置（4）噴出的霧滴覆蓋硅片（1）表面。
2.根據權利要求1所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述噴霧裝置（4）包括連接板（42）和設置于連接板（42）上的噴頭（41）。
3.根據權利要求2所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述連接板（42）上設置有一個噴頭（41）。
4.根據權利要求2所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述連接板（42）上設置有多個噴頭（41）。
5.根據權利要求3或4所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述噴頭（41）噴霧方向與所述硅片（1）傳送方向呈30－150度角。
6.根據權利要求1、2、3或4所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述霧滴的直徑為1－1000微米。
7.根據權利要求5所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述霧滴的直徑為1－1000微米。
8.根據權利要求6所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述噴霧裝置（4）噴出的霧滴為去離子水。
9.根據權利要求7所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述噴霧裝置（4）噴出的霧滴為去離子水。
10.根據權利要求9所述一種具有噴霧功能的濕法刻蝕機，其特征在于：所述連接板（42）上設置有兩個噴頭（41），分別位于連接板（42）兩端并與連接板（42）形成一個倒置的梯形槽狀。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射，或微粒輻射敏感的，并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的，或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件；專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的，例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的，一個或多個電光源，如場致發光光源在結構上相連的，并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的
