[實用新型]平面灰塵足跡拍攝遮光罩

有效

• 申請號: 201220361012.3
• 申請日: 2012-07-16
• 公開（公告）號: CN202677039U
• 公開（公告）日: 2013-01-16
• 發明（設計）人: 石世民
• 申請（專利權）人: 石世民
• 主分類號: G03B15/06
• 分類號: G03B15/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域：本實用新型涉及一種拍攝的輔助裝置，特別是公安刑事技術部門現場拍攝平面客體上灰塵足跡的輔助裝置。

背景技術：目前，公安刑事技術部門在勘查刑事案件現場時，往往需要通過拍攝方式，記錄和提取現場地面等平面客體上的犯罪嫌疑人足跡，而現場地面等平面客體上的足跡大部分是灰塵足跡，灰塵足跡一般情況下需要通過角度很低的掠射光才能發現和拍攝，如果在晚上等暗環境條件下就較容易做到，但在日光光線太強的白天，拍攝時的照射燈的掠射光就顯得太弱，因此白天即使勉強拍攝，效果也不好，常常要等到晚上來進行補拍。公安機關的刑事技術部門人員少，任務重，不能在白天勘查現場時完成該項工作，還要等到晚上，增加了工作量，大大降低了工作效率。目前研制和使用的足跡拍攝裝置結構復雜，成本高，顯現效果也不理想。

發明內容：本實用新型克服了現有裝備的不足，提供了一種結構簡單的遮光罩，該遮光罩為拍攝平面灰塵足跡提供了一個暗環境，有效遮擋白天雜亂的光線，改變掠射光在罩體內壁的反射方向，可以清晰顯現平面灰塵足跡。

本實用新型采用的技術方案：一個罩子，在罩子的頂部開一攝影孔，在罩子一側底部邊緣開一矩形窗口作為掠射光照射窗，該窗可調節大小。在罩子內，正對照射窗的內側壁上，安置一個照射光反射裝置，即一組百葉窗結構的百葉式葉片，百葉式葉片向罩底和照射窗方向傾斜，葉片與罩體底面的夾角構成鈍角，罩體內壁全部噴涂黑色吸光涂層。

對平面客體上的灰塵足跡拍攝時，將該遮光罩罩住足跡，然后使用光源在罩體外通過掠射光照射窗向內照射。光線通過照射窗進入罩體，形成掠射光，進入罩體的掠射光大部分會照射在罩體底部和正對照射窗的內側壁上，該內側壁上的百葉式葉片將光線大部分向上反射掉，減少向下的反射光，從而提高足跡的反差。從罩體上部的攝影孔可以進行觀察和拍攝。

有益效果：結構簡單、成本低，使用方便，可大大提高公安刑事技術部門在現場勘查中拍攝平面灰塵足跡的工作效率。

附圖說明：

圖1本實用新型的結構示意圖

附圖標記說明：

1-掠射光照射窗；

2-照射窗調節板；

3-照射窗調節板固定鈕；

4-罩體；

5-拍攝孔；

6-百葉式葉片；

具體實施方式：

下面結合附圖對本實用新型進一步描述：

根據圖1所示，本實施例為一個長方形箱子，去掉底部側板后就形成一個罩子，在罩子頂部開一直徑10cm的圓孔5，罩子一側開一個矩形窗口1，窗口上有可上下移動的照射窗調節板2控制窗口的大小，照射窗調節板通過照射窗調節板固定鈕3固定；在罩子內側，正對掠射光照射窗的內側壁上安裝百葉式葉片6，葉片向下和照射窗方向傾斜，與罩子底部的夾角為鈍角；罩子內壁，包括百葉片，均噴涂黑色吸光涂層。罩子可以采用金屬、塑料、紡織品等材料制作。

罩子也可以是圓形或其他形狀。百葉式葉片安裝的范圍大小可根據正對掠射光照射窗的內側壁大小確定，范圍越寬，效果越好。