[實用新型]平面灰塵足跡拍攝遮光罩有效
| 申請號： | 201220361012.3 | 申請日： | 2012-07-16 |
| 公開（公告）號： | CN202677039U | 公開（公告）日： | 2013-01-16 |
| 發明（設計）人： | 石世民 | 申請（專利權）人： | 石世民 |
| 主分類號： | G03B15/06 | 分類號： | G03B15/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 530012 廣*** | 國省代碼： | 廣西;45 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 平面 灰塵 足跡 拍攝 遮光 | ||
【權利要求書】：
1.一種平面灰塵足跡拍攝遮光罩，包括罩體、拍攝孔，其特征是：在罩體一側底部邊緣開一個掠射光照射窗，正對掠射光照射窗的罩體內壁上安置照射光反射裝置。
2.根據權利要求1所述的遮光罩，其特征是：罩體上的掠射光照射窗是矩形的，大小能夠調節。
3.根據權利要求1所述的遮光罩，其特征是：所述照射光反射裝置為百葉式葉片。
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