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[實用新型]一種非晶硅薄膜電池芯片有效

專利信息
申請?zhí)枺?/td> 201220238538.2 申請日: 2012-05-25
公開(公告)號: CN202585435U 公開(公告)日: 2012-12-05
發(fā)明(設(shè)計)人: 鄧文忠 申請(專利權(quán))人: 浙江慈能光伏科技有限公司
主分類號: H01L31/0224 分類號: H01L31/0224
代理公司: 暫無信息 代理人: 暫無信息
地址: 315336 浙江*** 國省代碼: 浙江;33
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摘要:
搜索關(guān)鍵詞: 一種 非晶硅 薄膜 電池 芯片
【說明書】:

技術(shù)領(lǐng)域

實用新型涉及太陽能電池領(lǐng)域,具體是一種非晶硅薄膜電池芯片。

背景技術(shù)

非晶硅太陽能電池芯片主要用于草坪燈、太陽能裝飾燈、室內(nèi)電子產(chǎn)品等充電使用,由于電池芯片的體積小,通常正負極引線都是使用電烙鐵焊錫方式,在電池芯片的正負極上直接焊接引線。

現(xiàn)在有技術(shù)通常在背電極上面通過絲網(wǎng)印刷導(dǎo)電銅、經(jīng)過高溫烘烤,使導(dǎo)電銅粘貼在正負電極兩端;但由于該種方式在焊接過程中或在使用過程中很容易脫落、粘接不牢靠,嚴(yán)重影響電池的電氣性能。

實用新型內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有的太陽能電池的背電極在使用過程中容易脫落、粘接不牢靠的問題,本實用新型提供了一種非晶硅薄膜電池芯片。

本實用新型采用的技術(shù)方案是:所述電池芯片包括玻璃基板、非晶硅薄膜層和背電極,所述玻璃基板上依次設(shè)有非晶硅薄膜層和背電極,所述背電極包括鋁層和銅鎳合金層。

優(yōu)選地,所述銅鎳合金層位于鋁層的上部,所述銅鎳合金層的上面覆蓋有保護膜。

優(yōu)選地,所述玻璃基板和非晶硅薄膜層之間設(shè)有透明導(dǎo)電膜。

優(yōu)選地,所述鋁層和銅鎳合金層上設(shè)有絕緣線。

本實用新型電池芯片的背電極包括鋁層和銅鎳合金層,大大降低了焊接的脫落率,并且焊接方便,牢靠,由于整個背電極都是由銅鎳膜組成,可以自由的變換焊接位置,大大減輕了焊點設(shè)計困難。而且該電池芯片的磁控濺射為真空度鍍膜工藝,整過鍍膜十分均勻,速度快提高了工作效率,制作流程方便,保質(zhì)期長,使太陽電池芯片更加穩(wěn)定。

附圖說明

圖1為本實用新型一種實施例的局部結(jié)構(gòu)示意圖;

圖2為本實用新型一種實施例的絕緣線結(jié)構(gòu)示意圖;

圖3為本實用新型一種實施例的保護膜結(jié)構(gòu)示意圖;

圖4為本實用新型一種實施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

在圖中,1玻璃基板、2透明導(dǎo)電膜、3非晶硅薄膜層、4背電極、5絕緣線、6保護膜、21一次光刻處、22二次光刻處、23三次光刻處、24橫向絕緣線、25正電極、26負電極、411鋁層、412銅鎳合金層。

具體實施方式

以下結(jié)合附圖對本實用新型提供的具體實施方式作進一步詳細的描述:

如圖1-3所示,為本實用新型一種實施例的結(jié)構(gòu)示意圖,該電池芯片包括玻璃基板1、非晶硅薄膜層3和背電極4,所述玻璃基板1上依次設(shè)有非晶硅薄膜層3和背電極4,所述背電極4包括鋁層411和銅鎳合金層412。本實用新型電池芯片的背電極包括鋁層和銅鎳合金層,大大降低了焊接的脫落率,并且焊接方便,牢靠,由于整過背電極都是由銅鎳膜組成,可以自由的變換焊接位置,大大減輕了焊點設(shè)計困難。而且該電池芯片的磁控濺射為真空度鍍膜工藝,整過鍍膜十分均勻,速度快提高了工作效率,制作流程方便,保質(zhì)期長,使太陽電池芯片更加穩(wěn)定。

再次參閱圖1,在玻璃基板1上鍍上透明導(dǎo)電膜2,在透明導(dǎo)電膜上刻劃小單元,形成一次光刻處21,將刻劃了非晶硅薄膜層的電池片在磁控濺射中沉積背電極;首先將磁控濺射設(shè)備抽真空至3×10-3Pa;進入工藝自動方式,開啟直流射頻電源,頻率為13.56MHz、靶材功率為5-9KW;傳動速度為0.8-1m/s;并通入氣體Ar,流量為200-300sccm;將非晶硅薄膜電池放入真空腔室,分別在非晶硅膜表面上沉積A1層411和Cu、Ni合金層412兩層,沉積厚度為1μm。

在經(jīng)過波長為532的綠激光在背電極膜上刻線,形成二次光刻處22,沿著非晶硅刻劃線溝道同一方向,并且與該方向平行,相距約0.1mm;使各節(jié)電池電氣斷開作用;再用波長為532的綠激光在背電極表面刻劃絕緣線5,形成三次光刻處23,該絕緣線包括多條橫向絕緣線24,如圖2,橫向絕緣線24的寬度為0.03-0.05mm。并要求跨線電阻大于2M?Ω;保證各電池芯片與外界隔離。

再將刻蝕好橫向絕緣線24的非晶硅薄膜電池在專用貼膜機上貼一層保護膜6,如圖3所示;要求貼膜機滾動頻率為30Hz,貼膜滾輪壓力為0.2-0.5MPa。

再將貼膜后的非晶硅薄膜電池在自動玻璃切割機上,根據(jù)設(shè)定后的規(guī)格尺寸進行切割;如圖4所示,最后用激光打標(biāo)機將非晶硅表面上的絕緣保護膜開出正負電極25、26;再經(jīng)過測試分選包裝入庫,得到100%性能的非晶硅薄膜太陽電池芯片。

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