[實用新型]單晶爐石墨坩堝提升裝置

有效

• 申請號: 201220192925.7
• 申請日: 2012-04-28
• 公開（公告）號: CN202643902U
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 舟橋啟
• 申請（專利權）人: 上海漢虹精密機械有限公司
• 主分類號: C30B15/30
• 分類號: C30B15/30
• 代理公司: 上海元一成知識產權代理事務所(普通合伙) 31268
• 代理人: 趙青

技術領域

本實用新型涉及CZ法拉單晶爐石墨坩堝提升裝置。

背景技術

單晶硅一般采用CZ法生產。CZ法是依靠加熱器將石墨坩堝內的原料硅溶解，再將安裝在籽晶夾頭上的籽晶浸入溶液中。然后，使籽晶夾頭和石墨坩堝相對逆向旋轉，同時提拉籽晶夾頭，使晶錠(單晶硅)按照所設定的直徑及長度生長的方法。使用時一般采用的是盛裝熔液的石墨坩堝和盛放并支撐石墨坩堝的雙重構造。為防止石墨坩堝與其中盛放的石墨坩堝因熱膨脹系數不同而發生破裂，石墨坩堝被縱向分成了幾部分，其形狀并不固定。在拉晶結束清掃熱場時，取出已使用過的石墨坩堝后，多采用人力將分體式石墨坩堝取出。

拉晶結束后取出石墨坩堝時，如果是小型的熱場，即使采用人力也不算費力，但是近年熱場正在越來越大型化，用人力來對應就變得越來越難了。另外，為了能夠讓包圍在石墨坩堝外周的加熱器高效加熱溶解石墨坩堝內盛放的原料硅，在加熱時盡量將石墨坩堝放置在加熱器內部。石墨坩堝外表面和加熱器的內表面之間的間隙很小。比如通常設定為只有12毫米左右。此外，通常坩堝軸的行程范圍只能滿足拉晶的最低需要，即確保到達拉晶用的裝料位置和化料位置等。

即使在如此有限的空間里，也能夠用工裝也可將分體式石墨坩堝(瓣狀)取出，但是，考慮到實際的使用情況，就會發現這些工裝很難在實際中廣泛使用、因為這些工裝的結構復雜、石墨坩堝掉落的危險性較高，存在各種問題。

實用新型內容

本實用新型的目的在于提供一種無石墨坩堝掉落的危險，能夠確保石墨坩堝周圍的充足空間實現取出，工裝的構造簡單等的單晶爐石墨坩堝提升裝置。

為解決上述技術問題，本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置，包括：坩堝軸，所述坩堝軸設置在單晶爐底部；石墨坩堝托盤，所述石墨坩堝托盤設置在所述坩堝軸的頂端；石墨坩堝，所述石墨坩堝為分體式石墨坩堝，所述石墨坩堝設置在所述石墨坩堝托盤上；石墨坩堝，所述石墨坩堝套設在所述石墨坩堝托盤內。當所述坩堝軸的行程達到最大值時，所述石墨坩堝托盤的水平位置高于加熱器所在平面。所述石墨坩堝托盤與所述石墨坩堝的接觸面的形狀與所述石墨坩堝的底部的形狀相契合。在所述石墨坩堝托盤的邊緣設有搭肩。

本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置確保了石墨坩堝周圍充裕的空間，使分體式石墨坩堝取出工裝的設計變得更為容易，工裝的構造也將變得更加簡單。另外，不是依靠工裝，而是依靠下方設置的石墨坩堝托盤來保持分體式石墨坩堝形狀。這樣能夠大幅降低石墨坩堝掉落的危險。也能對應大型化的熱場，提高工作效率。由于能立即將處于高溫狀態下的石墨坩堝取出，節省了熱場冷卻的時間，因此清潔時間大幅縮短。

附圖說明

圖1為本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置結構示意圖；

圖2為本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置坩堝軸上升示意圖；

本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置及其使用方法附圖中附圖標記說明：

1-單晶爐????????2-坩堝軸??????????3-石墨坩堝托盤

4-石墨坩堝??????5-石墨坩堝????????6-加熱器

具體實施方式

下面結合附圖對本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置及其使用方法作進一步詳細說明。

如圖1、圖2所示，本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置，包括：坩堝軸2，坩堝軸2設置在單晶爐1底部的中心位置，當坩堝軸2的行程達到最大值時，石墨坩堝托盤3的水平位置高于加熱器6所在平面；石墨坩堝托盤3設置在坩堝軸2的頂端，在石墨坩堝托盤3的邊緣設有搭肩；分體式石墨坩堝4設置在石墨坩堝托盤3上，石墨坩堝托盤3與石墨坩堝4的接觸面的形狀與石墨坩堝4的底部的形狀相契合；石墨坩堝5，石墨坩堝5套設在石墨坩堝托盤3內。

本實用新型單晶爐石墨坩堝提升裝置確保了石墨坩堝周圍充裕的空間，使分體式石墨坩堝取出工裝的設計變得更為容易，工裝的構造也將變得更加簡單。另外，不是依靠工裝，而是依靠下方設置的石墨坩堝托盤來保持分體式石墨坩堝形狀。這樣能夠大幅降低石墨坩堝掉落的危險。也能對應大型化的熱場，提高工作效率。由于能立即將處于高溫狀態下的石墨坩堝取出，節省了熱場冷卻的時間，因此清潔時間大幅縮短。

以上已對本實用新型創造的較佳實施例進行了具體說明，但本實用新型并不限于實施例，熟悉本領域的技術人員在不違背本實用新型創造精神的前提下還可作出種種的等同的變型或替換，這些等同的變型或替換均包含在本申請的范圍內。