[實用新型]PECVD沉積槽有效
| 申請號： | 201220157527.1 | 申請日： | 2012-04-13 |
| 公開（公告）號： | CN202543320U | 公開（公告）日： | 2012-11-21 |
| 發明（設計）人： | 孫雙慶;杜穎濤;齊海洋 | 申請（專利權）人： | 英利能源（中國）有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44;B32B15/01 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 魏曉波 |
| 地址： | 071051 河*** | 國省代碼： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | pecvd 沉積 | ||
【權利要求書】：
1.一種PECVD沉積槽，包括PECVD沉積槽本體(1)，其特征在于，還包括：覆蓋于所述PECVD沉積槽本體(1)頂面的噴砂層(2)和覆蓋于所述噴砂層(2)頂面的鍍鋁層(3)。
2.根據權利要求1所述的PECVD沉積槽，其特征在于，所述噴砂層(2)的粗糙度不小于800μm。
3.根據權利要求1所述的PECVD沉積槽，其特征在于，所述鍍鋁層(3)的粗糙度不小于800μm。
4.根據權利要求1所述的PECVD沉積槽，其特征在于，所述鍍鋁層(3)的厚度在2-5μm之間。
5.根據權利要求1-4中任意一項所述的PECVD沉積槽，其特征在于，所述PECVD沉積槽本體(1)為316不銹鋼板槽。
6.根據權利要求5所述的PECVD沉積槽，其特征在于，所述PECVD沉積槽本體(1)的厚度為1.2mm。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
