[實用新型]一種對半導體產品的自動酸洗設備

有效

• 申請號: 201220149731.9
• 申請日: 2012-04-09
• 公開（公告）號: CN202643917U
• 公開（公告）日: 2013-01-02
• 發明（設計）人: 張燕青;龔海燕
• 申請（專利權）人: 鎮江大成新能源有限公司
• 主分類號: C30B33/10
• 分類號: C30B33/10
• 代理公司: 南京蘇高專利商標事務所(普通合伙) 32204
• 代理人: 柏尚春

技術領域

本實用新型涉及一種自動清洗設備，特別是一種對半導體產品的自動酸洗設備。?

背景技術

一般金屬材料含有少量雜質時，電阻率變化不大，但純凈的半導體材料摻入少量的雜質后，則導致電阻率變化巨大，這是半導體材料的基本特性。多晶硅、籽晶、母合金等半導體產品不但在生產、加工、運輸、儲存過程中會被沾污，也會被空氣中的油、水蒸汽、塵埃等污染。所以，在使用前需進行酸洗以去除雜質等。?

目前對多晶硅、籽晶、母合金等半導體產品酸洗主要是人工進行，存在勞動強度大、生產效率低、酸洗品質不一致等缺點。?

實用新型內容

實用新型目的：針對上述問題，本實用新型的目的是提供一種對半導體產品的自動酸洗設備，實現自動化生產，保證酸洗品質的一致性。?

技術方案：一種對半導體產品的自動酸洗設備，包括清洗制具、驅動裝置和控制器，所述控制器對所述清洗制具的清洗時間和振動頻率進行控制，所述驅動裝置提供動力給所述清洗制具。?

所述清洗制具由耐酸和耐高溫的材料制造而成。?

有益效果：與現有技術相比，本實用新型的優點是通過自動化設備完成對多晶硅等半導體的清洗，與人工清洗的操作手法一致，自動化控制有利于提高酸洗品質的一致性，減少勞力，提高酸洗的生產效率，而且對整塊材料可以直接清洗，減少材料損耗。?

附圖說明

附圖圖1為本實用新型結構示意圖。?

具體實施方式

下面結合附圖圖1和具體實施例，進一步闡明本實用新型，應理解這些實施例僅用于說明本實用新型而不用于限制本實用新型的范圍，在閱讀了本實用新型之后，本領域技術人員對本實用新型的各種等價形式的修改均落于本申請所附權利要求所限定的范圍。?

如附圖圖1所示，一種對半導體產品的自動酸洗設備，包括清洗制具1、驅動裝置2和控制器3，清洗制具1由耐酸和耐高溫的材料制造而成，適應酸性工作條件，控制器3對設置清洗時間和振動頻率等參數，對清洗制具1的工作進行控制，驅動裝置2提供清洗制具1工作所需的動力。?