[實用新型]一種具有穩定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃

有效

• 申請號: 201220136082.9
• 申請日: 2012-03-31
• 公開（公告）號: CN202540848U
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 蒼利民;韓廣軍;張云飛;劉國龍;王建;賀超宇
• 申請（專利權）人: 河南安彩高科股份有限公司
• 主分類號: B32B9/04
• 分類號: B32B9/04;B32B17/00;B32B15/04
• 代理公司: 鄭州科維專利代理有限公司 41102
• 代理人: 繆風舉

技術領域

本實用新型屬于低輻射鍍膜玻璃生產技術領域，尤其涉及一種具有穩定銀層的一種具有穩定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃。

背景技術

磁控濺射：所謂濺射，即用荷能粒子轟擊物體，可以使物體表面原子從目標體表面逸出。磁控濺射又稱為高速、低溫的濺射技術，其在本質上是按磁控模式運行的二極濺射，不依靠外加源來提高放電中的電離率，而是利用濺射產生的二次電子本身的作用。在磁控濺射裝置中，增設了和電場相正交的磁場，二次電子在正交的電場和磁場的共同作用下，不再是做單純的直線運動，而是按特定的軌跡做復雜運動。這樣，二次電子到達陽極的路程大大增加，碰撞電離幾率也增加了，顯著提高濺射效率。此外，在磁控濺射裝置中的陽極置于陰極（靶材）的周圍，基片放置在陰極靶材的對面，二次電子在經過多次碰撞后，自身能量消耗殆盡，對基片的碰撞減少則可提高鍍膜質量。

濺射成膜原理：在充入少量工藝氣體的真空艙室內，當極間電壓很小時，只有少量離子和電子存在，電流密度在10-15A/cm2數量級，當真空艙室內陰極（靶材）和陽極間電壓增加時，帶電粒子在電場的作用下加速運動，粒子能量增加，與電極或中性氣體原子相碰撞，產生更多的帶電粒子，直至電流達到10-6A/cm2數量級，當電壓在增加時，則會產生負阻效應，即“雪崩”現象。此時離子轟擊陰極（靶材），擊出陰極原子和二級電子，二次電子與中性原子碰撞產生更多離子，此離子再轟擊陰極（靶材），又產生二次電子，如此反復。當電流密度達到10-2A/cm2數量級時，電流將隨電壓的增加而增加，形成高密度等離子體的異常輝光放電，高能量的離子轟擊陰極（靶材）產生濺射現象，濺射出來的高能量靶材粒子沉積到陽極（玻璃基片，即平板玻璃）上，從而達到鍍膜目的。

現有的低輻射鍍膜玻璃一般采用鎳鉻層作為銀層的隔離保護層，由于鎳鉻金屬膜對光具有高吸收性，故在鍍制高透型低輻射鍍膜玻璃時便將鎳鉻層鍍制的偏薄，但鎳鉻層的減薄又影響到了銀層的穩定性，尤其對可鋼化膜系的玻璃產品影響更大。

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服現有高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃上鎳鉻層偏薄，導致銀層的穩定性差的缺點，而提供一種具有穩定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，在原有的鎳鉻層上利用濺射鍍制一層鎳鉻氧化物，有鎳鉻層和鎳鉻氧化物層兩層薄膜組成銀層的保護層，不但提高了銀層的穩定性，而且又有效的提高了膜系的光透過率。

實現本實用新型所采用的技術方案：

一種具有穩定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、從內向外依次濺射在玻璃基板上的第一抗反射膜層、第一隔離膜層、第二抗反射膜層、Ag層、第二隔離膜層、保護膜層，其中第一抗反射層和保護膜層的材料為Si₃N₄；第一隔離膜層和第二隔離膜層的材料為NiCr；第二抗反射膜層的材料為ZnO，其特征在于：在第二隔離膜層與保護膜層之間利用濺射方法鍍制第三隔離膜層。

所述的第三隔離膜層的材料為NiCrO_x。

所述的第二隔離膜層的厚度為1-3mm，第三隔離膜層的厚度為5-15mm。

第二隔離膜層和第三隔離膜層共同組成Ag層的隔離保護層，既起到保護Ag層的作用，又提高了膜系透過率。

本實用新型的有益效果是：

1、本實用新型提高了銀層的穩定性。

2、本實用新型提高了膜系的光透過率。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

具體實施方式

如圖1所示，一種具有穩定銀層的高透型可異地鋼化低輻射鍍膜玻璃，包括玻璃基板、從內向外依次濺射在玻璃基板上的第一抗反射膜層2、第一隔離膜層3、第二抗反射膜層4、Ag層5、第二隔離膜層6、保護膜層8，其特征在于：在第二隔離膜層6與保護膜層8之間利用濺射方法鍍制第三隔離膜層7。

由于玻璃中有60%-70%的硅成分，Si₃N₄與玻璃表面有較好的結合力，同時Si₃N₄結構致密，可有效阻擋玻璃鋼化時基板本身釋放的鈉離子或游離氧侵蝕Ag層，造成其被氧化而失去隔熱節能的功能，所以用Si₃N₄作為第一抗反射膜層2的材料，第一抗反射膜層2的膜厚為20-30?nm。

第一隔離膜層3的材料為NiCr合金，其膜厚為1-5?nm，可保護Ag層免受侵蝕而被氧化。