[實用新型]一種在線原子層沉積裝置有效
| 申請號: | 201220130496.0 | 申請日: | 2012-03-30 |
| 公開(公告)號: | CN202610317U | 公開(公告)日: | 2012-12-19 |
| 發明(設計)人: | 趙星梅;盛金龍;彭文芳;李春雷 | 申請(專利權)人: | 北京七星華創電子股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/54 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩 |
| 地址: | 100015 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 在線 原子 沉積 裝置 | ||
1.一種在線原子層沉積裝置,其特征在于,包括基板送料系統、加工腔室、前驅物送料系統、至少一個裝卸元件、提升元件、控制與檢測系統和排氣系統,其中所述基板送料系統將基板送入所述加工腔室中,所述前驅物送料系統設置在加工腔室的側面,所述裝卸元件設置于加工腔室的進、出口位置,所述提升元件設置在所述加工腔室的正下方,通過加工腔室上的開槽與基板承載裝置接觸,所述控制與檢測系統和排氣系統分別與加工腔室連接。
2.如權利要求1所述的在線原子層沉積裝置,其特征在于,所述加工腔室包括:預熱腔室、至少一個反應腔室和冷卻腔室;所述預熱腔室、所述反應腔室和所述冷卻腔室依序連接。
3.如權利要求2所述的在線原子層沉積裝置,其特征在于,所述預熱腔室、反應腔室和冷卻腔室都包括一個與腔室本體分離的上蓋,該上蓋分別與預熱腔室本體、反應腔室本體和冷卻腔室本體采用螺栓固定連接,所述上蓋上開設有氣體擴散口,并且所述上蓋中間設有開槽,用于放置加熱元件。
4.如權利要求1所述的在線原子層沉積裝置,其特征在于,所述基板送料系統包括開有凹槽的傳送帶,傳送帶驅動機構及其附屬機構,用以裝載基板承載裝置并使其隨傳送帶而移動。
5.如權利要求1所述的在線原子層沉積裝置,其特征在于,所述裝卸元件包括一個自動控制系統、至少一個移動元件和至少一個基板承載裝置,所述板承載裝置上開有供放置基板用的凹槽,使基板可以在基板承載裝置上呈矩陣式排布,用以容納一個及一個以上的基板。
6.如權利要求1所述的在線原子層沉積裝置,其特征在于,所述前驅物送料系統包括至少一個前驅物源容器及沖洗氣體源容器。
7.如權利要求1-6任意一項所述的在線原子層沉積裝置,其特征在于,所述在線原子層沉積裝置還包括:加熱系統,所述加熱系統包括至少一個加熱元件。
8.如權利要求7所述的在線原子層沉積裝置,其特征在于,控制與檢測系統,用以控制裝卸元件、基板送料系統、前驅物送料系統和加熱系統的動作,并實時檢測基板的ALD反應狀態。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





