[實(shí)用新型]旋轉(zhuǎn)式石英坩堝蝕刻清洗設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201220124033.3
• 申請(qǐng)日: 2012-03-29
• 公開（公告）號(hào): CN202539152U
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王向陽(yáng);加藤孝一
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海東朋科技有限公司
• 主分類號(hào): B08B9/32
• 分類號(hào): B08B9/32
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種旋轉(zhuǎn)式石英坩堝蝕刻清洗設(shè)備，由中心工作臺(tái)、機(jī)座、轉(zhuǎn)盤和清洗工作臺(tái)組成，所述中心工作臺(tái)上設(shè)置機(jī)座，所述機(jī)座連接轉(zhuǎn)盤；所述清洗工作臺(tái)環(huán)繞轉(zhuǎn)盤置放；其特征在于，所述機(jī)座設(shè)有電機(jī)連接變速裝置，所述變速裝置連接中心主軸旋轉(zhuǎn)；所述轉(zhuǎn)盤連接側(cè)視呈“Z”字形托架，所述托架位置與清洗工作臺(tái)位置相對(duì)應(yīng)；所述清洗工作臺(tái)設(shè)有高壓水噴淋裝置和液體噴淋裝置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式石英坩堝蝕刻清洗設(shè)備，其特征在于，所述的清洗工作臺(tái)上設(shè)有封閉的環(huán)狀箱體，所述環(huán)狀箱體設(shè)有開敞缺口，所述環(huán)狀箱體上端板內(nèi)圈一側(cè)設(shè)有活動(dòng)豁口，所述環(huán)狀箱體下端板向外圈一側(cè)傾斜，所述下端板近外圈一側(cè)傾斜處設(shè)有漏斗。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式石英坩堝蝕刻清洗設(shè)備，其特征在于，所述高壓水噴淋裝置包括高壓水泵、支架、固定座、雙通管和噴淋管，所述高壓水泵設(shè)置在清洗設(shè)備旁，所述固定座連接在清洗工作臺(tái)上方的支架上，所述雙通管固定在固定座上，所述雙通管一端連接高壓水泵，一端連接噴淋管，所述噴淋管分上下兩部分設(shè)置，上端噴淋管側(cè)視呈“C”字型，開口朝下，所述噴淋管設(shè)有向下和向左右兩側(cè)噴淋的噴嘴，下端噴淋管橫置于清洗工作臺(tái)上，所述噴淋管設(shè)有向上噴淋的噴嘴。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式石英坩堝蝕刻清洗設(shè)備，其特征在于，所述液體噴淋裝置設(shè)有水泵及連接上下兩端橫置的噴淋管，所述水泵設(shè)置于清洗工作臺(tái)下方，其汲液管置于清洗工作臺(tái)下方空腔儲(chǔ)液桶內(nèi)，所述上端噴淋管設(shè)有向下噴液的噴嘴，所述下端噴淋管設(shè)有向上噴液的噴嘴。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)式石英坩堝蝕刻清洗設(shè)備，其特征在于，所述中心工作臺(tái)和清洗工作臺(tái)底部均設(shè)有調(diào)節(jié)螺栓。