[實用新型]人造革、合成革涂飾系統

有效

• 申請號: 201220116991.6
• 申請日: 2012-03-26
• 公開（公告）號: CN202490742U
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 莊傳根;李正全;李勇
• 申請（專利權）人: 江蘇連港皮革機械有限公司
• 主分類號: B05C1/08
• 分類號: B05C1/08;B05C11/00;B05C11/04;B05C13/02;B05D7/12;B05D3/00
• 代理公司: 北京市合德專利事務所 11244
• 代理人: 李本源

技術領域

本實用新型涉及人造革、合成革涂飾裝置，特別是涉及一種自動化的人造革、合成革涂飾系統。?

背景技術

目前，對于人造革、合成革的后段處理，尤其是涂飾工藝，還沒有智能化的生產線，大都是人工操作單機完成，而現有不多的涂飾生產線，較為粗糙，有許多不足需要革新。?

如，人造革、合成革在生產過程中，因人造革、合成革的卷與卷之間需機器縫合連接，因而會出現大量的接縫（接頭），在涂飾時，只能由操作者目測，發現有接縫通過時，憑經驗手動操作涂飾輥與彈性底輥的分、合狀態，以使得接縫通過涂飾輥與彈性底輥時，二者處于分離狀態，但，傳送機構的速度較快，一般都是20m/min左右，人工操作的準確率較低，單憑人工控制，因時間差因素，會造成接縫前后2米左右的人造革、合成革沒有涂飾，或涂飾效果達不到要求，造成浪費，又由于每卷革中有多處接縫既造成更大浪費的狀況；如果沒有即時的發現接縫，進而使得接縫通過輥涂機時，涂飾輥與彈性底輥仍處于擠壓狀態，由于接縫處的厚度較高（一般接縫處的厚度約高出人造革、合成革厚度的3倍），令彈性底輥的表面膠層產生局部明顯的凹陷，此時彈性底輥繼續轉動，在凹陷處恢復初始狀態之前，彈性底輥已經完成多次滾動，即凹陷處在恢復之前會有大量的人造革、合成革通過，如此，造成多處涂飾不達標產品，進而產生更多的人造革、合成革等的殘次品；尤其是，彈性底輥經多次局部變形后，其使用壽命會受到極大的影響。?

又如，現有設備沒有適用于皮革厚度測量的測量裝置，大都是由操作者利用卡尺等測具測量人造革、合成革厚度，依據所測厚度值，并結合需要達到的涂飾效果，憑經驗調整涂飾輥與彈性底輥的間隙（即對人造革、合成革的擠壓力度），而人造革、合成革的厚度并不均勻，利用卡尺測得的局部尺寸顯然無法等同于人造革、合成革的整體平均尺寸，且依據經驗進行擠壓力度的調整，人為因素較多，誤差較大，涂飾的效果不統一，質量難以保證。?

實用新型內容

本實用新型的目的在于克服上述技術問題的缺陷，提出一種人造革、合成革涂飾系統。本實用新型對現有的人造革、合成革涂飾系統進行了革命性改進，改進后的系統更為準確的測量人造革、合成革厚度，并依據所測厚度值，按照預設的模式自動調整。?

本實用新型采用的技術方案如下：一種人造革、合成革涂飾系統，包括同軸依次設置的放卷機、輥涂機、烘箱、針板裝置、冷卻裝置和卷取機，還包括檢測裝置和測量裝置，所述檢測裝置安裝在放卷機與輥涂機之間，所述測量裝置安裝在檢測裝置與輥涂機之間；?

所述放卷機用于對人造革、合成革的卷放；

所述測量裝置用于測量人造革、合成革的厚度，并將所測數據傳至輥涂機；

所述檢測裝置用于監測是否有人造革、合成革的接縫通過，并將測得信息輸送至針板裝置和輥涂機；

所述針板裝置用于控制人造革、合成革的傳送；

所述輥涂機用于對人造革、合成革進行涂飾；

所述烘箱和冷卻裝置分別用于對涂飾后的人造革、合成革進行烘干和冷卻；

所述卷取機用于收卷冷卻后的人造革、合成革。

進一步的，所述輥涂機包括涂飾輥、刮刀和彈性底輥，所述刮刀設置于涂飾輥的一側，所述彈性底輥設置在涂飾輥的下方。?

進一步的，所述針板裝置內設置有緊固件，用于將人造革、合成革撐展并定型。?

進一步的，它還包括站臺，所述站臺設置于放卷機和輥涂機之間。?

進一步的，它還包括糾偏裝置，所述糾偏裝置設置于烘箱之前，用于糾正人造革、合成革的傳送路徑。?

采用上述技術方案，本實用新型具有如下的技術效果：?

1、本實用新型能夠實現人造革、合成革涂飾工藝的全自動化操作，節約人力，且效率高；

2、本實用新型能夠自動檢測傳送過程中的人造革、合成革的厚度，所測數值更加貼近其平均厚度值，準確度高；

3、本實用新型的輥涂機能夠依據所測厚度值，自動進行相應的調整，以適應不同的涂飾工藝需求，大大降低了產品的殘次率，降低了成本；

4、本實用新型設置的檢測裝置，能夠即時的檢測到接縫，并將所檢測到的信息通過數據線輸送給輥涂機及針板裝置的控制單元，其控制單元依據所獲得信息發送相應的動作指令給輥涂機及針板裝置，使得二者即時進行相應的調整，確保接縫通過涂飾輥與彈性底輥時，二者剛好處于分離狀態，并確保通過之后，涂飾輥與彈性底輥能夠即時的恢復擠壓狀態，將人造革、合成革的浪費將至更低。