[實用新型]一種屏蔽罩

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220109644.0
• 申請日: 2012-03-21
• 公開（公告）號: CN202587743U
• 公開（公告）日: 2012-12-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許健;魯智勇;周佳;杜國楹
• 申請（專利權(quán)）人: 北京壹人壹本信息科技有限公司
• 主分類號: H05K9/00
• 分類號: H05K9/00
• 代理公司: 深圳鼎合誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44281
• 代理人: 楊明輝

技術(shù)領(lǐng)域

本實用新型涉及電子技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種屏蔽罩。

背景技術(shù)

為了提高手機、電腦等小型電子器件或大型通訊設(shè)備的抗EMI(電磁干擾)能力，通常會在其結(jié)構(gòu)中設(shè)置金屬材質(zhì)制成的屏蔽罩，即利用電磁波無法穿透金屬的原理對電路板上的元器件進行電磁屏蔽。屏蔽罩一般采用拉伸件或者折彎件，主要包括平板狀的頂面和自頂面向下彎折的多個壁面，相鄰壁面之間形成轉(zhuǎn)角。

一種現(xiàn)有技術(shù)如申請日為2011年5月5日、申請?zhí)枮?01120139608.4的中國實用新型專利，公開了一種采用拉伸工藝加工的屏蔽罩，這類屏蔽罩的頂面、壁面和轉(zhuǎn)角完全連為一體，因此屏蔽罩的密閉性較好，然而拉伸件的工藝精度通常較低，制成的屏蔽罩難以滿足小型電子器件或者精密器件對于SMT(表面組裝技術(shù))和結(jié)構(gòu)精度的要求。

折彎件的工藝精度相對較高，這類屏蔽罩的壁面由自頂面延伸出的折邊向下彎折形成，轉(zhuǎn)角由相鄰的壁面合攏后自然形成。考慮到金屬板材自身的厚度可能造成彎折工藝中的結(jié)構(gòu)干涉現(xiàn)象，因此頂面與折邊之間的折痕不能與頂面的角部完全平齊，而是將折痕設(shè)計在折邊上且與頂角之間保持較小的余量，以確保彎折工藝順利進行，然而由于該余量的存在，彎折成型的屏蔽罩在頂角處容易形成類似于正方體的缺口，相鄰的壁面之間有時也無法完全合攏而形成縫隙，導(dǎo)致屏蔽罩難以完全密封，容易產(chǎn)生電磁波泄漏。

實用新型內(nèi)容

本實用新型要解決的主要技術(shù)問題是，提供一種提高密封性的屏蔽罩。

為解決上述技術(shù)問題，本實用新型提供一種屏蔽罩，包括嵌套配合的屏蔽蓋和屏蔽架，所述屏蔽蓋包括第一頂面和與所述第一頂面相連的多個第一壁面，相鄰兩第一壁面之間具有與所述第一頂面的角部相連的屏蔽蓋棱邊，所述屏蔽蓋棱邊一側(cè)的第一壁面端部延伸至所述屏蔽蓋棱邊，另一側(cè)的第一壁面端部與所述屏蔽蓋棱邊之間留有屏蔽蓋缺口；所述屏蔽架包括第二頂面和與所述第二頂面相連的多個第二壁面，相鄰兩第二壁面之間具有與所述第二頂面的角部相連的屏蔽架棱邊，所述屏蔽架棱邊一側(cè)的第二壁面端部延伸至所述屏蔽架棱邊，另一側(cè)的第二壁面端部與屏蔽架棱邊之間留有屏蔽架缺口；所述屏蔽蓋棱邊和屏蔽架棱邊相貼合形成屏蔽罩轉(zhuǎn)角，所述屏蔽蓋缺口和屏蔽架缺口分別位于所述屏蔽罩轉(zhuǎn)角的兩側(cè)。

一種實施方式中，所述屏蔽蓋缺口的上沿延伸至所述第一頂面內(nèi)部形成第一加工空位，且該上沿與所述屏蔽蓋的第一頂面上對應(yīng)的角部之間形成第一預(yù)留面。

進一步地，所述屏蔽架缺口的上沿延伸至所述第二頂面內(nèi)部形成第二加工空位，且該上沿與所述屏蔽架的第二頂面上對應(yīng)的角部之間形成第二預(yù)留面。

所述屏蔽蓋的至少一個第一壁面和屏蔽架的至少一個第二壁面上分別設(shè)有定位凸點和定位孔，或所述屏蔽蓋的至少一個第一壁面和屏蔽架的至少一個第二壁面上分別設(shè)有定位孔和定位凸點，所述定位凸點嵌入所述定位孔。

一種實施方式中，所述屏蔽架嵌置在所述屏蔽蓋內(nèi)部，所述屏蔽架的厚度不小于屏蔽蓋的厚度。

一種實施方式中，所述屏蔽架的第二頂面包括邊框、加強筋和中心支撐部，所述邊框的外側(cè)與所述第二壁面相連，內(nèi)側(cè)通過加強筋與所述中心支撐部相連。

進一步地，所述中心支撐部包括磁性吸盤。

進一步地，所述邊框與加強筋的連接處設(shè)有易折凹槽。

一種實施方式中，所述屏蔽蓋的第一頂面的輪廓為矩形，所述第一壁面具有四個，所述屏蔽架的第二頂面的輪廓也為矩形，所述第二壁面也具有四個。

一種實施方式中，所述屏蔽蓋上兩個相對的第一壁面在兩端都預(yù)留屏蔽蓋缺口，另外兩個相對的第一壁面兩端都延伸至對應(yīng)的屏蔽蓋棱邊；所述屏蔽架上兩個相對的第二壁面在兩端都預(yù)留屏蔽架缺口，另外兩個相對的第二壁面兩端都延伸至對應(yīng)的屏蔽架棱邊。

本實用新型的有益效果是：本實用新型屏蔽罩為采用屏蔽蓋和屏蔽架嵌套配合而形成的層疊結(jié)構(gòu)，由于屏蔽蓋的有些第一壁面和屏蔽架的有些第二壁面分別留有屏蔽蓋缺口和屏蔽架缺口，并不需要彎折形成的所有壁面的端部都延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角處，因此不會由于各壁面對應(yīng)的折痕與頂面之間預(yù)留余量而在屏蔽罩的頂角處形成類似于正方體的缺口；裝配時，兩個缺口分別錯開設(shè)置在屏蔽罩轉(zhuǎn)角的兩側(cè)，使屏蔽蓋缺口被延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第二壁面完全封閉，屏蔽架缺口被延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第一壁面完全封閉，且延伸至屏蔽罩轉(zhuǎn)角的第一壁面和第二壁面正好能夠完全合攏，因此不會形成縫隙，因此本實用新型屏蔽罩實現(xiàn)了無縫配合，有效提高了屏蔽罩的密封性能，減少了電磁波泄漏的隱患。