[實用新型]雕刻工具

有效

• 申請號: 201220051878.4
• 申請日: 2012-02-17
• 公開（公告）號: CN202541163U
• 公開（公告）日: 2012-11-21
• 發明（設計）人: 吳龍海;吳豐旭
• 申請（專利權）人: 明基材料有限公司;明基材料股份有限公司
• 主分類號: B44B3/04
• 分類號: B44B3/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型有關于一種雕刻工具，特別關于一種具特殊紋路的雕刻工具。

背景技術

隨著顯示科技的進步，發展出一種相位差薄膜。透過相位差薄膜可產生光學上的不同的相位延遲，進而產生立體視覺效果。相位差薄膜可應用于立體顯示眼鏡、立體顯示電視等顯示產品。

相位差薄膜必須維持在一定程度的精確度，才能確保其光學品質。然而，在精確度的要求下，相位差薄膜的制造速度無法有效提升。

習知技術中，制造相位差薄膜是利用具特殊微結構的滾輪壓印可固化樹脂，使滾輪上的微結構轉印至可固化樹脂上，再將液晶涂布至樹脂上形成相位差薄膜。相位差薄膜上的不同微結構搭配適當液晶會使相位差薄膜具有特定的相位差值。習知技術中，具特殊微結構的滾輪的制作方法，是利用雕刻工具對滾輪進行雕刻，以使滾輪表面呈現預定的特定微結構，利用具特定微結構的滾輪進而可快速且精確地以壓印方式制造出相位差薄膜。利用習知的雕刻工具制作滾輪時因需調整雕刻方向及角度，故需要較長時間且容易有微結構轉印失真的問題，使得相位差薄膜品質因此下降，因此，研究人員目前均致力于發展一種工具來快速且精準地制作出制造相位差薄膜的滾輪，以符合產業界的需求。

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種雕刻工具，可縮短雕刻時間以及避免微結構轉印失真。

本實用新型提供一種雕刻工具，其包括：本體；雕刻面，位于該本體的一面，該雕刻面上具有復數個納米細紋。

于本實用新型一較佳實施例中，該復數個納米細紋平行排列。

于本實用新型一較佳實施例中，該復數個納米細紋間的間距介于100nm至1000nm之間。

于本實用新型一較佳實施例中，該復數個納米細紋不規則排列。

于本實用新型一較佳實施例中，該復數個納米細紋間的間距介于0nm至1000nm之間。

于本實用新型一較佳實施例中，該復數個納米細紋的深度介于10nm至1000nm之間。

于本實用新型一較佳實施例中，該復數個納米細紋的寬度介于100nm至1000nm之間。

本實用新型的雕刻工具利用雕刻面上的納米細紋沿預定方向以磨擦的方式雕刻滾輪，使滾輪表面具有預定方向的紋路結構，可減少制程所需時間，快速且精密的制作出制造相位差薄膜的滾輪，此外，因滾輪上的紋路結構由納米細紋磨擦所形成，而非轉印雕刻工具上的微結構，可避免微結構在轉印時失真，進而提高相位差薄膜的品質。

附圖說明

圖1為本實用新型一實施例的雕刻工具的立體示意圖。

圖2為本實用新型的雕刻工具的局部放大圖。

圖3為本實用新型另一實施例的雕刻工具的立體示意圖。

具體實施方式

為使對本實用新型的目的、構造、特征、及其功能有進一步的了解，茲配合實施例詳細說明如下。

請參閱圖1，其中圖1為本實用新型一實施例的雕刻工具10的立體示意圖。如圖1所示，雕刻工具10包括本體100以及雕刻面110。雕刻面110位于本體100的一面，雕刻面110上具有復數個納米細紋111。請參閱圖2，其中圖2為雕刻面110的立體放大圖。在本實用新型一實施例中，雕刻面110上的復數個納米細紋111為平行排列，每一納米細紋111間的間距D111介于100nm(納米)至1000nm(納米)之間，每一納米細紋111的深度H111介于10nm至1000nm之間，每一納米細紋111的寬度W111介于100nm至1000nm之間，如圖2所示。請參閱圖1，利用雕刻面110沿預定方向以磨擦的方式雕刻被雕刻物，即可在被雕刻物上雕刻出預定紋路。例如，首先控制滾輪的旋轉速度搭配雕刻工具10的移動速度，使雕刻工具10以其雕刻面110上的復數個平行排列的納米細紋111與滾輪的中心軸呈45°角，自滾輪的一端向滾輪的另一端雕刻預定距離形成預定刻痕，雕刻至滾輪的另一端時僅需改變雕刻工具10的雕刻方向，如使雕刻工具10以其雕刻面110上的復數個平行排列的納米細紋111與滾輪的中心軸呈135°角，自滾輪的另一端往回雕刻預定距離。由此可見，在進行雕刻制程時，無須一再旋轉雕刻工具10，僅需改變雕刻工具10的雕刻方向，即可制作出不同的紋路結構。

雕刻面110的材質可配合欲雕刻的工件而選擇適合的材質，在本實用新型一實施方式中，雕刻面的材質是金剛石、金屬或是陶瓷。在本實用新型另一較佳實施方式中，雕刻面的材質是金剛石。