[實(shí)用新型]一種磁控濺射低成本LOW-E玻璃

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201220011672.9
• 申請日: 2012-01-03
• 公開（公告）號: CN202379894U
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏佳坤
• 申請（專利權(quán)）人: 揭陽市宏光鍍膜玻璃有限公司
• 主分類號: C03C17/36
• 分類號: C03C17/36
• 代理公司: 揭陽市博佳專利代理事務(wù)所 44252
• 代理人: 黃少松

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種磁控濺射低成本LOW-E玻璃。

背景技術(shù)

隨著節(jié)能減排的要求越來越高，普通的鍍膜玻璃已滿足不了人們的需求，人們追求一種更低輻射率的并可遮陽的LOW-E玻璃，但同時(shí)由于市場競爭越來越激勵(lì)，人們更是尋求一種低成本的LOW-E玻璃。

發(fā)明內(nèi)容

本實(shí)用新型的目的是針對上述存在問題，提供一種透過率高、鍍膜層與玻璃基片的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻的磁控濺射低成本LOW-E玻璃。

本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的：包括有玻璃基片，在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有五個(gè)膜層，其中，第一膜層即最內(nèi)層為氧化錫層，第二膜層為鉻層，第三膜層為金屬銅層，第四膜層為氮氧化鉻層，第五膜層為氧化鋅錫層。

本實(shí)用新型，氧化錫層的厚度為35~43nm，鉻層的厚度為1.5~3nm，金屬銅層的厚度為12~16nm，氮氧化鉻層的厚度為1.5~3nm，氧化鋅錫層的厚度為35~46nm。

本實(shí)用新型，具有如下積極效果：

1）、采用磁控濺射法將鍍膜層濺射在玻璃基片上，鍍膜層與玻璃基片的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻；

2）、作為濺射的靶材均采用物美價(jià)廉的材料，產(chǎn)品成本比同類產(chǎn)品下降30%以上；

3）、透過率可任意調(diào)整，顏色豐富。

本實(shí)用新型，具有透過率高、鍍膜層與玻璃基片的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻的優(yōu)點(diǎn)。

下面實(shí)施例結(jié)合附圖說明對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的說明。

附圖說明

圖1是本實(shí)用新型的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

圖中，1、玻璃基片；2、復(fù)合面；21、氧化錫層；22、鉻層；23、金屬銅層；24、氮氧化鉻層；25、氧化鋅錫層。

具體實(shí)施方式

參照圖1，本實(shí)施例是一種磁控濺射低成本LOW-E玻璃，包括有玻璃基片1，在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地磁控濺射有五個(gè)膜層，其中，第一膜層即最內(nèi)層為氧化錫層21，第二膜層為鉻層22，第三膜層為金屬銅層23，第四膜層為氮氧化鉻層24，第五膜層為氧化鋅錫層25；第一膜層的氧化錫層21，即SnO₂層，SnO₂是一種折射率相對較高的材料，抗腐蝕性好，在可見光范圍內(nèi)對顏色敏感；從而不僅能獲得較高的透過率，生產(chǎn)出的玻璃顏色豐富，SnO₂層的厚度為35~43nm；第二膜層的鉻層22，即Cr層，為阻擋層，它阻擋了玻璃中滲出的Na⁺對Cu的腐蝕，Cr層的厚度為1.5~3nm；第三膜層的金屬銅層23，即Cu層，為功能層，金屬銅層提供了較低的輻射率，起環(huán)保節(jié)能的作用；Cu層的厚度為12~16nm；第四膜層的氮氧化鉻層24，即CrN_xO_y層，為阻擋層，它阻擋了從空氣中滲入的氧氣，防止對功能層的氧化；提高膜層耐磨性、提高透光率、CrN_xO_y層的厚度為1.5~3nm；第五膜層的氧化鋅錫層26，即ZnSn₃O₄層，ZnSn₃O₄層的厚度為35~46nm。

本實(shí)用新型，采用磁控濺射法將鍍膜層濺射在玻璃基片上，鍍膜層與玻璃基片的結(jié)合力強(qiáng)、鍍膜層致密、均勻。本玻璃利用成本低廉的錫作為介質(zhì)層，并用Cu代替?zhèn)鹘y(tǒng)LOW-E玻璃上用的Ag，進(jìn)一步降低成本。

本實(shí)用新型，透光率T（透過透明或半透明體的光通量與其入射光通量的百分率）可從40%到85%任意調(diào)整；本玻璃輻射率≤0.09，玻璃的輻射率越接近于零，其絕熱性能就越好。

本實(shí)用新型，單位nm是納米，1m=10⁹?nm。