[發明專利]一種場發射陰極的處理方法無效
| 申請號： | 201210595736.9 | 申請日： | 2012-12-17 |
| 公開（公告）號： | CN103077869A | 公開（公告）日： | 2013-05-01 |
| 發明（設計）人： | 紀成友;劉志龍 | 申請（專利權）人： | 青島紅星化工廠 |
| 主分類號： | H01J9/02 | 分類號： | H01J9/02;C01B31/00;B82Y30/00 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 266000 山*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 發射 陰極 處理 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種場發射陰極的處理方法，包括：
取適量碳納米管粉末加入無水乙醇，置入超聲波清洗機進行振蕩分散，自然通風靜置晾干后再次研磨；
取10ml?TiCl3溶液與0.3gMWCNTs混合并攪拌均勻；
取適量硼氫酸鈉固體用去離子水配置成1mol/L的溶液；
取10ml硼氫酸鈉緩慢加入TiCl3溶液(含MWCNTs)，并攪拌；
待反應完全結束后，將反應后的溶液靜置24h，濾去上層溶劑；
加入去離子水后放入離心機，取出碳納米管讓其自然晾干；
將完全干燥的碳納米管充分研磨后與適量無水乙醇混合，放入超聲機進行超聲分散，超聲結束后將碳納米管自然晾干；
充分研磨后，以10％的質量比例加入有機載體，攪拌后制成漿料。用此漿料以200目絲網在兩端預置銀電極的基板中央印制出摻鈦MWCNTs薄膜樣品；
將制備好的試樣置入管式真空爐中，在Ar氣保護環境下進行高溫燒結處理。
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