[發(fā)明專利]一種芍藥切花槽式無土栽培方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210593004.6
• 申請日: 2012-12-31
• 公開（公告）號(hào): CN103026956A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉燕;賈清華;韓婧;劉利剛;黃國京;甄宏宇
• 申請（專利權(quán)）人: 北京林業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): A01G31/00
• 分類號(hào): A01G31/00;A01G31/02;A01C21/00
• 代理公司: 北京瑞思知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11341
• 代理人: 王加嶺

1.一種芍藥切花槽式無土栽培方法，其特征在于：

1）大棚內(nèi)開挖下凹式土槽作為種植槽，對(duì)槽底及側(cè)面進(jìn)行消毒處理，槽底與側(cè)面鋪無紡布，槽底無紡布上鋪陶粒作為瀝水層，槽內(nèi)裝填無土栽培基質(zhì)；

2）秋季槽內(nèi)單行種植切花芍藥，使其在自然環(huán)境下接受低溫，待平均日氣溫降至0℃以下的1-2月，用草簾覆蓋植株，以免植株受凍害；室外平均氣溫達(dá)到0℃-5℃，用薄膜覆蓋溫室，進(jìn)行日光加溫；覆膜后5-7天，撤去覆蓋草簾；之后每隔3-4天早晚通風(fēng)，將溫室溫度控制在22℃-25℃；至室外平均氣溫達(dá)到10℃-15℃，每日進(jìn)行通風(fēng)處理；待室外溫度達(dá)到22-25℃時(shí)，拆除溫室薄膜；

3）配套施肥方法：于芍藥萌芽開始，施用N、P、K質(zhì)量百分比分別為20%：20%：20%的的水溶性復(fù)合肥，每隔7-10天施用一次，施肥濃度為1.5g/L，施肥量為1L/株·次；芍藥花期過后，每隔1個(gè)月施用一次，施肥濃度為3.0g/L，施肥量為1L/株·次，施用3次。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，種植槽的長為15m，寬50cm，高45cm。

3.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，對(duì)種植槽底部及側(cè)面進(jìn)行消毒處理，具體步驟為：用70%的代森錳鋅800-1000倍噴灑2遍，晾干后再次噴灑1遍。

4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，種植槽底部及側(cè)面鋪100g/m²的無紡布，將土壤和基質(zhì)隔開。

5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在底部鋪5-8cm厚的陶粒作為瀝水層，陶粒粒徑為1.0-3.5cm。

6.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，草炭：蛭石：珍珠巖體積比3：1：1混合作為無土栽培基質(zhì)，基質(zhì)中混合雞糞，基質(zhì)與雞糞的體積比為9:1，裝填基質(zhì)的厚度為35-38cm。

7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述薄膜為厚0.1mm、透光率為95%的PEP利得膜。

8.如權(quán)利要求1~7任一項(xiàng)所述的方法，其特征在于，所述芍藥品種為‘紫鳳羽’。