[發明專利]智能型缺陷診斷方法有效
| 申請號: | 201210587012.X | 申請日: | 2012-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN103187343A | 公開(公告)日: | 2013-07-03 |
| 發明(設計)人: | 呂一云 | 申請(專利權)人: | 敖翔科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/66 |
| 代理公司: | 隆天國際知識產權代理有限公司 72003 | 代理人: | 趙根喜;呂俊清 |
| 地址: | 中國臺*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 智能型 缺陷 診斷 方法 | ||
1.一種智能型缺陷診斷方法,其使用于一制造工廠,其特征在于,該方法包括:
步驟A10:接收至少一缺陷檢測儀器所產生的多個缺陷數據,接收一輪廓設計系統產生的多個設計布局圖,以及接收該制造工廠所產生的多個制造數據;
步驟B10:通過一缺陷分析系統分析該缺陷數據、設計布局圖及該制造數據,其中,該分析步驟還進一步包括下列子步驟:
步驟B101:先分割完整晶片設計布局圖成許多設計布局圖單元,再將同樣圖形的設計布局圖歸在一起,成為多個復合式圖形群組單元,用以構成一布局圖圖形群組單元屬性的圖形群組;
步驟B102:引入該缺陷數據;
步驟B1025:將該缺陷的影像分割成多個缺陷及多個圖形輪廓;
步驟B103:將所述缺陷數據疊合至每一復合式圖形群組單元,用以形成一布局圖圖形群組屬性的缺陷復合式圖形群組,以及辯識出高失敗頻率的缺陷布局圖圖形;
步驟B1035:對影像圖形輪廓與設計布局圖施以坐標轉換及圖形比對重疊,用以校正其坐標;
步驟B104:對該缺陷輪廓、圖形輪廓或設計布局圖多邊圖執行關鍵區域分析,用以得到一相對應的缺陷良率;
步驟B105:通過缺陷影像分類分析而對該缺陷數據的缺陷種類區分類別。
2.如權利要求1所述的智能型缺陷診斷方法,其特征在于,該方法還包括下列步驟:
步驟C10:由制造數據、自動缺陷良率數據與自動缺陷分類數據中施以數據參數分析。
3.如權利要求2所述的智能型缺陷診斷方法,其特征在于,該缺陷數據參數分析步驟還包括下列子步驟:
步驟C101:聚集該制造數據;
步驟C102:將自動缺陷良率、自動缺陷分類數據與該制造數據建立關聯;
步驟C103:建立一缺陷數據參數分析方程式,其中,該缺陷數據參數分析方程式包括有設備或生產腔模式、產品模式、工廠線上數據模式、錯誤檢測與分類模式或黃金路徑模式。
4.如權利要求1所述的智能型缺陷診斷方法,其特征在于,該方法還包括下列步驟:
步驟C20:收集多個批號所累積的缺陷數據,并完成一布局圖圖形群組屬性的缺陷復合布局圖圖形群組;
步驟D20:取得至少一高失敗頻率的缺陷布局圖圖形。
5.如權利要求1所述的智能型缺陷診斷方法,其特征在于,該方法還包括下列步驟:
步驟C30:重新取得一制造數據、一自動缺陷良率數據及一自動缺陷分類數據;
步驟D30:得到良好晶粒的至少一產出預測值。
6.如權利要求1所述的智能型缺陷診斷方法,其特征在于,該方法還包括下列步驟:
步驟C50:完成一圖形測量分析,用以產生并測量該缺陷影像圖的圖形輪廓、缺陷輪廓,并得到一缺陷的熱點圖形;
步驟D50:整合影像圖形輪廓與缺陷輪廓,并創造一完整晶片的制造輪廓圖形瀏覽器。
7.如權利要求6所述的智能型缺陷診斷方法,其特征在于,該圖形測量分析步驟還包括下列子步驟:
步驟C501:產生一缺陷影像圖形輪廓,并得到一布局圖圖形多邊圖或一模擬圖形多邊圖;
步驟C502:針對該缺陷影像圖形輪廓、布局圖圖形多邊圖或該模擬圖形多邊圖而執行圖形比對重疊;
步驟C503:將該缺陷影像圖形輪廓、布局圖圖形多邊圖或該模擬圖形多邊圖累積并疊置;
步驟C504:通過影像圖形測量與由影像尺寸單位辨識分析得來的量尺,測量該圖形輪廓與該圖形多邊圖的大小尺寸;
步驟C505:引入至少一圖形規格,并設定該圖形規格的容許誤差值;
步驟C506:檢查該多邊圖的寬度、間距或形狀是不是合乎與圖形規格的容許誤差,用以逮出該缺陷的熱點圖形;
步驟C507:當該輪廓測量數據超過該圖形規格的公差值時,則辯識出特定缺陷的熱點圖形。
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H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





