[發(fā)明專利]一種提高反發(fā)射薄膜與鉬柵網(wǎng)基底結(jié)合力的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210585107.8
• 申請(qǐng)日: 2012-12-28
• 公開（公告）號(hào): CN103898440A
• 公開（公告）日: 2014-07-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 呂琴麗;李弢;楊明華;郜健
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京有色金屬研究總院
• 主分類號(hào): C23C14/02
• 分類號(hào): C23C14/02;C23C14/16;C23C14/34;H01J9/14
• 代理公司: 北京北新智誠(chéng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11100
• 代理人: 劉茵

1.一種提高反發(fā)射薄膜與鉬柵網(wǎng)基底結(jié)合力的方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：

A.將加工好的鉬柵網(wǎng)進(jìn)行真空除氣，溫度為800±20℃；

B.采用離子束輔助沉積法在上述Mo柵網(wǎng)上沉積一層反發(fā)射薄膜；

C.對(duì)所制成的柵網(wǎng)進(jìn)行退火處理，退火溫度為1000～1300℃。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟A真空除氣操作中，真空度優(yōu)于1×10^-5Pa，保溫時(shí)間為10±3分鐘。

3.如權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述步驟B的離子束輔助沉積過(guò)程中，離子束(Ar⁺)能量為800～1000eV，本底真空度優(yōu)于1×10^-4Pa，工作氣壓為0.02～0.1Pa。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述步驟B中，反發(fā)射薄膜為表面功函數(shù)大于2.3eV且熔點(diǎn)高于1500℃的金屬。

5.如權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述金屬為鉑、鋯或鉿。

6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述反發(fā)射薄膜厚度為1.0±0.1um。

7.如權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述步驟C的退火處理操作中，退火時(shí)間為0.5～3小時(shí)，本底真空優(yōu)于1×10^-4Pa。

8.一種柵控行波管用鉬柵基底，其特征在于，其是采用權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法制備的。