[發明專利]導管及導管的制造方法有效
| 申請號: | 201210585062.4 | 申請日: | 2012-12-28 |
| 公開(公告)號: | CN103191509A | 公開(公告)日: | 2013-07-10 |
| 發明(設計)人: | 水野貴文;中川裕樹;杉浦壽史 | 申請(專利權)人: | 株式會社戈德曼 |
| 主分類號: | A61M25/00 | 分類號: | A61M25/00 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 張寶榮 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導管 制造 方法 | ||
1.一種導管,其特征在于,
具備在內部具有管腔的管體,
在所述管體上包圍所述管腔的周壁部上,在軸線方向的中途形成有用于將導絲向所述管體內引導的導絲入口,
在所述管體上,在軸線方向上的夾著所述導絲入口的兩側分別設有在外表面實施了親水性的涂敷的涂敷區域,
各所述涂敷區域中的一方的涂敷區域相對于所述導絲入口在軸線方向上分離配置,
在所述管體上,所述一方的涂敷區域與所述導絲入口之間的區域成為在外表面未實施所述涂敷的未涂敷區域。
2.根據權利要求1所述的導管,其特征在于,
所述導絲入口朝向基端側在管體外側開口,
所述未涂敷區域相對于所述導絲入口設置在基端側。
3.根據權利要求2所述的導管,其特征在于,
各所述涂敷區域中的另一方的涂敷區域相對于所述導絲入口在軸線方向上隔開比該導絲入口與所述一方的涂敷區域間的間隔小的間隔配置或者與所述導絲入口連續配置。
4.根據權利要求2或3所述的導管,其特征在于,
在所述管體上,在所述一方的涂敷區域實施的所述涂敷的厚度比在另一方的涂敷區域實施的所述涂敷的厚度小。
5.根據權利要求4所述的導管,其特征在于,
所述一方的涂敷區域配置成比所述導絲入口靠基端側。
6.一種導管的制造方法,所述導管具備在內部具有管腔的管體,在所述管體上包圍所述管腔的周壁部上,在軸線方向的中途形成有用于將導絲向所述管體內引導的導絲入口,該導管的制造方法的特征在于,包括:
在將所述管體以其軸線方向朝向上下的方式吊下的狀態下,向該管體的外表面的比所述導絲入口靠下側的規定范圍涂布具有親水性的涂敷液的第一涂布工序;
同樣在所述管體的所述吊下狀態下,向在該管體的外表面上比所述導絲入口靠上側且與該導絲入口分離的規定的范圍涂布所述涂敷液的第二涂布工序;
使通過各所述涂布工序涂布的所述涂敷液固定,由此在所述管體的外表面上形成涂敷層的固定工序。
7.根據權利要求6所述的導管的制造方法,其特征在于,
在所述第二涂布工序中,與所述第一涂布工序相比,相對于所述管體的外表面將所述涂敷液涂布得薄。
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