[發(fā)明專(zhuān)利]波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置、光源系統(tǒng)及其相關(guān)投影系統(tǒng)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210576141.9
• 申請(qǐng)日: 2012-12-26
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103836542A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-06-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 楊毅
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 深圳市光峰光電技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): F21V9/10
• 分類(lèi)號(hào): F21V9/10;F21S8/00;G03B21/20
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及照明及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置、光源系統(tǒng)及其相關(guān)投影系統(tǒng)。

背景技術(shù)

現(xiàn)有技術(shù)中的投影系統(tǒng)的發(fā)光裝置中，常采用激發(fā)光對(duì)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層進(jìn)行激發(fā)以產(chǎn)生受激光，其中該受激光的出射光斑的形狀和激發(fā)光在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層上形成的光斑的形狀大致一樣。但在一些場(chǎng)合的運(yùn)用中，受激光的光斑需要形成特定的形狀，因此，激發(fā)光在入射于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層之前需先經(jīng)過(guò)整形裝置已形成特定形狀，這會(huì)增加發(fā)光裝置的成本以及體積。

而且，在每個(gè)波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料顆粒在受激發(fā)的過(guò)程中，由于其波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換效率不可能是100％，其中所損失的能量都轉(zhuǎn)化為熱量，這就造成了波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料顆粒的熱量的累積和溫度的快速上升，直接影響了波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料的發(fā)光效率和使用壽命。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明主要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種減小體積和提高波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換材料的光轉(zhuǎn)換效率的光源系統(tǒng)。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種光源系統(tǒng)，包括用于產(chǎn)生激發(fā)光的激發(fā)光源和波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，該激發(fā)光入射于該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置包括：

基底，包括第一表面，該第一表面上設(shè)置有一個(gè)凹坑；

該凹坑的表面上設(shè)置有反射層，使得該反射層的表面的起伏與該凹坑的表面的起伏一致；

在所述反射層上設(shè)置有波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的表面的起伏與該反射層的表面的起伏一致；

基底的第一表面面向激發(fā)光，且激發(fā)光在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置上形成的光斑覆蓋凹坑的至少部分；

激發(fā)光在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置上形成的光斑完全落入凹坑內(nèi)，且該光斑的形狀與該凹坑的開(kāi)口形狀不同。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種光源系統(tǒng)，包括用于產(chǎn)生激發(fā)光的激發(fā)光源和波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，該激發(fā)光入射于該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置包括：

波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層包括第一表面，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的第一表面上設(shè)置有一個(gè)凹坑；

反射層，設(shè)置于所述波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層背向第一表面的一側(cè)；

波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的第一表面面向激發(fā)光，且激發(fā)光在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置上形成的光斑覆蓋凹坑的至少部分；

激發(fā)光在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置上形成的光斑完全落入凹坑內(nèi)，且該光斑的形狀與該凹坑的開(kāi)口形狀不同。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置，包括：

波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層包括第一表面，該波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的第一表面上設(shè)置有一個(gè)凹坑；

反射層，設(shè)置于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層背向第一表面的一側(cè)。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種投影裝置，包括上述光源系統(tǒng)。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明包括如下有益效果：

本發(fā)明中，激發(fā)光在波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置上形成的光斑完全落入凹坑內(nèi)，由于波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層出射受激光時(shí)為全角出射，受激光在凹坑內(nèi)直接出射或者經(jīng)該凹坑的內(nèi)壁一次或多次反射后出射，使得最終出射的受激光的光斑面積和形狀為整個(gè)凹坑的開(kāi)口面積和形狀，以起到對(duì)受激光光斑整形的作用，這樣，可以省略掉用于對(duì)激發(fā)光進(jìn)行整形的整形裝置，減小了光源系統(tǒng)的體積；同時(shí)，將波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層在基底表面上的一個(gè)凹坑內(nèi)，并且使得波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的表面的起伏與該凹坑的表面的起伏一致，這樣，相比入射于呈平面狀的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層，在相同的激發(fā)光的條件下，本實(shí)施例中的激發(fā)光所覆蓋的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的面積更大，因此單位面積內(nèi)的波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層接收到的激發(fā)光強(qiáng)度更小，進(jìn)而提高波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換層的光轉(zhuǎn)換效率。

附圖說(shuō)明

圖1A是本發(fā)明的光源系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1B是圖1A所示的光源系統(tǒng)中的凹坑的透視圖；

圖1C是圖1A所示的光源系統(tǒng)中的凹坑的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1D是圖1A所示的光源系統(tǒng)中的凹坑的另一種截面圖；

圖1E是圖1A所示的光源系統(tǒng)中的凹坑的另一種截面圖；

圖1F左側(cè)圖是圖1A所示的光源系統(tǒng)中的凹坑的另一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖1F右側(cè)圖是圖1F左側(cè)圖中的凹坑的俯視圖；

圖2是本發(fā)明的光源系統(tǒng)的另一實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖和實(shí)施方式對(duì)本發(fā)明實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。

實(shí)施例一

請(qǐng)參閱圖1，圖1是本發(fā)明的光源系統(tǒng)的一個(gè)實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖。光源系統(tǒng)100包括激發(fā)光源11和波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換裝置12。