[發明專利]磁記錄介質用玻璃基板及磁記錄介質有效
| 申請號： | 201210560842.3 | 申請日： | 2012-12-21 |
| 公開（公告）號： | CN103172276A | 公開（公告）日： | 2013-06-26 |
| 發明（設計）人： | 田先雷太;大塚晴彥 | 申請（專利權）人： | 旭硝子株式會社 |
| 主分類號： | C03C19/00 | 分類號： | C03C19/00 |
| 代理公司： | 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219 | 代理人： | 高培培;車文 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 記錄 介質 玻璃 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁記錄介質用玻璃基板，其中，
設如下的值為滯彈性變形量A：從下表面側支承所述磁記錄介質用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對所述磁記錄介質用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經過5小時的時候的平坦度和施加載荷前的平坦度之差的絕對值，
這種情況下，所述滯彈性變形量A為4.2μm以下。
2.如權利要求1所述的磁記錄介質用玻璃基板，其中，
設如下的值為滯彈性變形量B：從下表面側支承所述磁記錄介質用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對所述磁記錄介質用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經過5小時的時候的平坦度和解除載荷之后經過48小時的時候的平坦度之差的絕對值，
這種情況下，所述滯彈性變形量B為3.0μm以下。
3.如權利要求1或2所述的磁記錄介質用玻璃基板，其中，
從下表面側支承所述磁記錄介質用玻璃基板的直徑方向的兩端部并在對所述磁記錄介質用玻璃基板的中央部上表面施加48小時的載荷后解除載荷，在解除載荷之后經過5小時的時候的平坦度即滯彈性變形量C為5.5μm以下。
4.一種磁記錄介質，其特征在于，使用了權利要求1～3中任一項所述的磁記錄介質用玻璃基板。
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