[發(fā)明專利]用于流體流動(dòng)控制裝置的具有支路孔的閥盤組件

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210560153.2
• 申請(qǐng)日: 2012-12-21
• 公開（公告）號(hào): CN103883740B
• 公開（公告）日: 2017-12-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 韓云霞;孫艷濤;張勤
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 費(fèi)希爾調(diào)壓器(上海)有限公司
• 主分類號(hào): F16K1/00
• 分類號(hào): F16K1/00;F16K1/36;F16K31/126
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所11256
• 代理人: 鄭立柱

技術(shù)領(lǐng)域

本公開涉及一種用于流體流動(dòng)控制裝置的閥盤組件，并且更具體地，涉及一種用于流體調(diào)節(jié)器的控制元件的閥盤組件。

背景技術(shù)

典型的氣體分配系統(tǒng)供氣的壓強(qiáng)會(huì)根據(jù)對(duì)系統(tǒng)的需求、氣候、供應(yīng)源和/或其他因素而產(chǎn)生變化。然而，大多數(shù)裝有燃?xì)庥镁叩慕K端用戶設(shè)備，譬如火爐、烤箱，等等，要求依照預(yù)定的壓力且以小于等于氣體調(diào)節(jié)器的最大能力來輸送氣體。因此，氣體調(diào)節(jié)器應(yīng)用在這些分配系統(tǒng)中，以確保輸送的氣體符合終端用戶設(shè)備的要求。傳統(tǒng)的氣體調(diào)節(jié)器一般包括用來感測(cè)和控制所輸送的氣體壓強(qiáng)的閉環(huán)控制致動(dòng)器。

不同的操作參數(shù)，譬如溫度和壓強(qiáng)，能夠影響許多調(diào)節(jié)器元件的整體的使用壽命。例如，如圖1所示，用于傳統(tǒng)調(diào)節(jié)器的控制元件能夠典型地包括用來開啟和關(guān)閉調(diào)節(jié)器閥口20的閥盤組件10，從而調(diào)節(jié)供應(yīng)給下游用戶的氣體流動(dòng)。傳統(tǒng)的閥盤組件10包括容納有橡膠閥盤部件14的金屬的閥盤保持件12，其用于在關(guān)閉位置提供與調(diào)節(jié)器閥口20的流體密封。

在高的工作溫度(例如80℃及以上)時(shí)，然而，這些傳統(tǒng)的閥盤組件10容易受磨損影響。例如，在較高的工作溫度下，尤其是處于高壓下(例如150psi及以上)橡膠閥盤14更容易產(chǎn)生物理變形，然而鋼制的閥盤保持件12保持不變形。如圖1中的箭頭指向所述，在上述情形中，較高壓的流體能夠滲入閥盤部件14的外周與閥盤保持件12的內(nèi)壁之間任何的間隙18。壓強(qiáng)最終能夠聚集在閥盤部件14的后面。因此，當(dāng)閥盤組件10打開并移離閥口20時(shí)，所聚集的壓強(qiáng)能夠至少部分地將閥盤部件14推出它的指定的位置。圖2描述了一個(gè)可能的結(jié)果，相對(duì)于閥盤部件14的其他部分，閥盤部件14的側(cè)邊緣部位A從閥盤保持件12中伸出。這最終導(dǎo)致了閥盤部件14的密封面相對(duì)于閥口20成角度設(shè)置，而這將影響該裝置的預(yù)期操作。

發(fā)明內(nèi)容

本公開的一個(gè)方面提供了一種流體流動(dòng)控制裝置，包括閥體和致動(dòng)器。所述閥體包括入口、出口以及設(shè)置在所述入口與所述出口之間的閥口。所述致動(dòng)器耦合至所述閥體，以控制從所述入口至所述出口的、通過所述閥口的流體的流動(dòng)，并且所述致動(dòng)器還包含閥盤組件和可操作地耦合至所述閥盤組件的隔膜。閥盤組件設(shè)置于所述閥體中，并適于響應(yīng)于所述隔膜感測(cè)到的壓強(qiáng)變化而相對(duì)于所述閥口移位。所述閥盤組件包括環(huán)形的閥盤部件、圓柱形的閥盤保持件、安全孔、環(huán)形的凹槽以及至少一個(gè)支路通道。所述圓柱形的閥盤保持件具有朝向所述閥口的第一側(cè)和朝向遠(yuǎn)離所述閥口方向的第二側(cè)。所述安全孔沿閥盤保持件的中軸線設(shè)于所述閥盤保持件的所述第一側(cè)。環(huán)形凹槽形成在所述閥盤保持件的所述第一側(cè)，并且被設(shè)置為與所述安全孔共軸，并容納所述環(huán)形閥盤部件的至少一部分。所述至少一個(gè)支路通道形成在所述閥盤保持件內(nèi)，并提供所述安全孔與所述環(huán)形凹槽之間的流體連通，以使得所述閥體內(nèi)的在所述環(huán)形的閥盤部件與所述閥盤保持件間聚集在環(huán)形凹槽中的任何加壓流體都能夠通過所述支路通道從所述安全孔釋放。

本公開的另一個(gè)方面提供了一種閥盤組件，所述閥盤組件包括環(huán)形的閥盤部件、圓柱形的閥盤保持件、安全孔、環(huán)形凹槽以及至少一個(gè)支路通道。所述圓柱形的閥盤保持件具有朝向所述閥口的第一側(cè)和朝向遠(yuǎn)離所述閥口方向的第二側(cè)。所述安全孔沿所述閥盤保持件的中軸線形成于所述閥盤保持件的第一側(cè)。所述環(huán)形凹槽形成于所述閥盤保持件第一側(cè)且與所述安全孔共軸設(shè)置，并容納所述環(huán)形閥盤部件的至少一部分。所述至少一個(gè)支路通道形成于所述閥盤保持件內(nèi)，并提供所述安全孔與所述環(huán)形凹槽之間的流體連通，以使得所述閥體內(nèi)的在所述環(huán)形的閥盤部件與所述閥盤保持件之間聚集在環(huán)形凹槽中的任何加壓流體能夠通過所述支路通道從所述安全孔釋放。

本公開的另一方面提供了一種用于流體流動(dòng)控制裝置的閥盤組件，所述閥盤組件包括閥盤部件、閥盤保持件、凹槽以及至少一個(gè)流體通路。所述閥盤保持件具有第一側(cè)和第二側(cè)。凹槽形成于所述閥盤保持件第一側(cè)，并容納閥盤元件的至少一部分。所述至少一個(gè)流體通路形成于所述閥盤保持件內(nèi)，并在所述凹槽和所述閥盤保持件的外表面間延伸，以使得在使用時(shí)，在所述閥盤部件與所述閥盤保持件間聚集在凹槽中的加壓流體能夠通過所述流體通路釋放。

附圖說明

圖1是相對(duì)于例如流體調(diào)節(jié)器的閥口定位的傳統(tǒng)的閥盤組件的側(cè)剖視圖；

圖2是圖1中傳統(tǒng)的閥盤組件的側(cè)面立體圖，示出了閥盤部件由于在高溫應(yīng)用下使用而部分被推出的配置；

圖3是包括依據(jù)本公開原理而構(gòu)造的閥盤組件的流體流動(dòng)控制裝置的一個(gè)示例的側(cè)剖視圖；

圖4是圖3中的閥盤組件的示例的側(cè)剖視圖；