[發明專利]激光處理裝置及其控制方法

有效

• 申請號: 201210557411.1
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN103409804A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 鄭尚玄;沈亨基;洪起垣;崔均旭
• 申請（專利權）人: AP系統股份有限公司;三星顯示有限公司
• 主分類號: C30B33/02
• 分類號: C30B33/02;H01L21/324;B23K26/02
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 郝新慧;張浴月

技術領域

本發明涉及一種激光處理裝置及其控制方法，尤其涉及一種激光處理裝置及其控制方法，該激光處理裝置能夠僅對襯底的待進行激光處理的部分選擇性地進行激光處理，簡化用于激光處理的襯底對準，并且在后續處理中不用在執行該處理時使用單獨的測量儀器就可使襯底對準。

背景技術

在制造半導體器件、平板顯示器（FPD）器件、或太陽能電池器件等時，當在高溫下沉積薄膜時，熱化學反應可能造成反應爐污染，或者可能產生不想要的化合物。

因而，使用激光激發的等離子體化學氣相沉積在低溫下沉積薄膜。

同時，由于隨著襯底規格的增大，很難確保薄膜沉積和退火時的均勻性，因此已經提出了包括激光退火處理的各種措施。

反應室設置有進氣口/出氣口，通過所述進氣口/出氣口而供應反應氣體或從反應室排放反應氣體，并且在反應室上端設置有石英玻璃窗口。激光裝置放置于該石英玻璃窗口上方，并且從該激光裝置發射的激光束經過該石英玻璃窗口并到達反應室中的襯底。

呈簾幕狀照射的激光束垂直于襯底或相對于襯底稍微傾斜。

襯底沿相對于激光束的一個方向水平移動，從而使激光束照射至襯底的整個表面。

名稱為“用于調節能量束的長度和強度的激光處理裝置”的韓國專利申請號10-2010-0138509A（公開于2010年12月31日）公開了本發明的現有技術。

然而，由于通用激光處理裝置將激光束照射至整個襯底以執行激光處理，激光束甚至會照射襯底的不需要進行處理的部分，從而很難減少激光處理的時間。

此外，由于通過通用激光處理裝置成形（crystallize）的襯底在后續處理（post-process）中需要單獨的測量儀器以使襯底相對于電池和面板進行對準（align），因此，用于使襯底對準的裝置具有復雜的結構。

因此，需要一種克服現有技術中的這類問題的激光處理裝置。

發明內容

本發明的目的在于提供一種激光處理裝置及其控制方法，該激光處理裝置能夠僅對襯底的待進行激光處理的部分選擇性地進行激光處理，簡化用于激光處理的襯底對準操作，并且在后續處理中不用在執行處理時使用單獨的測量儀器就可使襯底對準。

根據本發明的一個方案，一種激光處理裝置包括：反應室，其內容納襯底；標記單元，被提供給(be?provided?to)所述反應室以在所述襯底上形成基準點；感測單元，檢測所述襯底的位置或所述基準點的位置；驅動單元，移動上面放置所述襯底的平臺；以及控制器，響應于從所述感測單元發送的位置信號而將操作信號發送到所述標記單元或所述驅動單元。

所述標記單元包括：處理單元，放置在所述反應室內，且所述處理單元將激光束照射到所述襯底；以及移除單元，吸入在通過所述處理單元形成所述基準點時所產生的雜質，并將所吸入的雜質排放到所述反應室的外部。

所述感測單元包括：第一傳感器，用于檢測所述襯底的角部；第二傳感器，用于檢測所述基準點的位置，以及第三傳感器，用于檢測照射到所述反應室中的所述激光束的位置。

根據本發明的另一個方案，一種激光處理裝置的控制方法，包括：（a）檢測放置在反應室內的襯底的位置；（b）移動所述襯底，使得標記單元朝向所述襯底中的目標位置；（c）驅動所述標記單元以在所述襯底上形成基準點；（d）在開始處理之后，確定是否初始化執行激光處理；（e）計算并存儲相對于基準點的被執行所述激光處理的處理位置；（f）將激光束從所述反應室的外部照射到所述反應室中，以對與存儲在控制器中的所述處理位置相對應的襯底執行激光處理；以及（g）確定激光處理后的襯底的數量是否達到預設值。

如果在所述步驟（d）中確定在開始所述處理之后不初始化執行所述激光處理時，則所述方法進行所述步驟（f）。

如果在所述步驟（g）中確定所述激光處理后的襯底的數量沒有達到所述預設值時，在所述激光處理后的襯底從所述反應室中被卸出且新襯底被供應至所述反應室中之后，則所述方法進行所述步驟（a）。

在根據本發明的激光處理裝置及其控制方法中，由于激光束能夠僅照射襯底的待進行激光處理的那部分，因此，縮短了用于照射激光束的操作時間，從而能夠減少用于激光處理的時間和成本。

此外，在根據本發明的激光處理裝置及其控制方法中，由于用于激光處理的襯底對準操作能夠被簡化，因此，通過便利化激光處理能夠實現批量生產，從而能夠進一步減少用于激光處理的時間和成本。