[發明專利]激光處理裝置及其控制方法

有效

• 申請號: 201210557411.1
• 申請日: 2012-12-20
• 公開（公告）號: CN103409804A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 鄭尚玄;沈亨基;洪起垣;崔均旭
• 申請（專利權）人: AP系統股份有限公司;三星顯示有限公司
• 主分類號: C30B33/02
• 分類號: C30B33/02;H01L21/324;B23K26/02
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 郝新慧;張浴月

1.一種激光處理裝置，包括：

反應室，其內容納襯底；

標記單元，被提供給所述反應室以在所述襯底上形成基準點；

感測單元，檢測所述襯底的位置或所述基準點的位置；

驅動單元，移動上面放置所述襯底的平臺；以及

控制器，響應于從所述感測單元發送的位置信號而將操作信號發送到所述標記單元或所述驅動單元。

2.根據權利要求1所述的激光處理裝置，其中所述標記單元包括：處理單元，放置在所述反應室內，且將激光束照射到所述襯底；以及移除單元，吸入在通過所述處理單元形成所述基準點時所產生的雜質，并將所吸入的雜質排放到所述反應室的外部。

3.根據權利要求1所述的激光處理裝置，其中所述感測單元包括：第一傳感器，用于檢測所述襯底的角部；第二傳感器，用于檢測所述基準點的位置，以及第三傳感器，用于檢測照射到所述反應室中的所述激光束的位置。

4.一種激光處理裝置的控制方法，包括：

（a）檢測放置在反應室內的襯底的位置；

（b）移動所述襯底，使得標記單元朝向所述襯底中的目標位置；

（c）驅動所述標記單元以在所述襯底上形成基準點；

（d）在開始處理之后，確定是否初始化執行激光處理；

（e）計算并存儲相對于基準點的被執行所述激光處理的處理位置；

（f）將激光束從所述反應室的外部照射到所述反應室中以對與存儲在控制器中的所述處理位置相對應的襯底執行激光處理；以及

（g）確定激光處理后的襯底的數量是否達到預設值。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，如果在所述步驟（d）中確定在開始所述處理之后不初始化執行所述激光處理時，則所述方法進行所述步驟（f）。

6.根據權利要求4所述的方法，其中，如果在所述步驟（g）中確定所述激光處理后的襯底的數量沒有達到所述預設值時，在所述激光處理后的襯底從所述反應室中被卸出且新襯底被供應至所述反應室中之后，所述方法進行所述步驟（a）。