[發(fā)明專利]垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210552348.2 | 申請日: | 2012-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN103872189A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李明剛 | 申請(專利權(quán))人: | 比亞迪股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/00 | 分類號: | H01L33/00;H01L33/50;H01L33/38 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 張大威 |
| 地址: | 518118 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 垂直 結(jié)構(gòu) 白光 led 芯片 及其 制備 方法 | ||
1.一種垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,包括:
S1.提供襯底;
S2.在所述襯底之上形成緩沖層;
S3.在所述緩沖層之上形成半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu);
S4.在所述半導(dǎo)體發(fā)光結(jié)構(gòu)之上形成電流擴散層;
S5.在所述電流擴散層之上形成熒光粉涂覆層;
S6.在所述電流擴散層之上、所述熒光粉涂覆層之中形成第一電極;
S7.提供引入襯底,所述引入襯底作為支撐,倒置先前形成的外延結(jié)構(gòu),所述引入襯底在第一預(yù)設(shè)溫度和外加電場下與所述熒光粉涂覆層和所述第一電極相固定;
S8.刻蝕所述襯底,蒸鍍電極材料,在所述襯底之中形成第二電極;以及
S9.加熱至第二預(yù)設(shè)溫度,再快速冷卻,將所述引入襯底與所述熒光粉涂覆層和所述第一電極分離,去除所述引入襯底。
2.如權(quán)利要求1所述的垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,所述步驟S3進(jìn)一步包括:
S31.在所述緩沖層之上形成本征層;
S32.在所述本征層之上形成n型層;
S33.在所述n型層之上形成量子阱;
S34.在所述量子阱之上形成電子阻擋層;以及
S35.在所述電子阻擋層之上形成p型層。
3.如權(quán)利要求1所述的垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,所述第一預(yù)設(shè)溫度為300-700℃,所述第二預(yù)設(shè)溫度為700-900℃。
4.如權(quán)利要求1所述的垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,所述引入襯底與所述第一電極的熱膨脹系數(shù)不同。
5.如權(quán)利要求1所述的垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,所述襯底為藍(lán)寶石、LiAlO2或LiGaO2。
6.如權(quán)利要求1所述的垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,所述引入襯底為摻雜硅、摻雜鍺硅或MgAl2O4。
7.如權(quán)利要求1所述的垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,所述步驟S7之后、所述步驟S8之前還包括:對所述襯底進(jìn)行通過機械減薄處理或者化學(xué)減薄處理中的一種或多種處理。
8.如權(quán)利要求1所述的垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片的制備方法,其特征在于,通過浸潤液分滴并旋涂的方式制備所述熒光粉涂覆層。
9.一種垂直結(jié)構(gòu)白光LED芯片,其特征在于,通過權(quán)利要求1-8任一項所述方法制成。
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