[發(fā)明專利]一種鈮靶材及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210551253.9 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103009000A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-04-03 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李桂鵬;王莉;汪凱;同磊;張春恒;張國(guó)軍;李兆博;郭從喜;任曉;許寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B23P15/00 | 分類號(hào): | B23P15/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 趙青朵;李玉秋 |
| 地址: | 753000 寧夏回族*** | 國(guó)省代碼: | 寧夏;64 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 鈮靶材 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及靶材技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種鈮靶材及其制備方法。
背景技術(shù)
靶材是在濺射沉積技術(shù)中用作陰極的材料,該材料能夠在帶正電荷的陽(yáng)離子撞擊下以分子、原子或離子的形式脫離陰極而在陽(yáng)極表面重新沉積。靶材作為一種具有高附加值的特種電子材料,其被廣泛用于濺射尖端技術(shù)的薄膜材料。根據(jù)應(yīng)用,靶材主要包括半導(dǎo)體領(lǐng)域用靶材、記錄介質(zhì)用靶材、顯示薄膜用靶材、先進(jìn)觸控屏及顯示器、光學(xué)靶材和超導(dǎo)靶材等。
磁控濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生離子,產(chǎn)生的離子在真空環(huán)境中經(jīng)過(guò)加速聚集,從而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能的交換,使固體表面的原子離開(kāi)固體表面并沉積在基體表面。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。
濺射靶材的形狀有長(zhǎng)方體、正方體、圓柱體和不規(guī)則形狀。長(zhǎng)方體、正方體和圓柱體形狀靶材為實(shí)心,濺射過(guò)程中,圓環(huán)形永磁體在靶材表面建立環(huán)形磁場(chǎng),在軸間等距離的環(huán)形表面上形成刻蝕區(qū),其缺點(diǎn)是薄膜沉積厚度均勻性不易控制,靶材的利用率較低,僅為20%~30%。目前國(guó)內(nèi)外都在推廣應(yīng)用旋轉(zhuǎn)空心圓管磁控濺射靶,其優(yōu)點(diǎn)是該空心圓管靶材可繞固定的條狀磁鐵組件旋轉(zhuǎn),因而360°靶面可被均勻刻蝕,利用率高達(dá)80%。一般來(lái)說(shuō),濺射靶材的晶粒尺寸必須控制在100微米以下,甚至其結(jié)晶結(jié)構(gòu)的趨向性也必須受到嚴(yán)格的控制。
鈮濺射靶材作為制備鈮及其合金薄膜材料的重要原料,在液晶平板顯示器、光學(xué)鏡頭、電子成像、信息儲(chǔ)存、太陽(yáng)能電池和玻璃鍍膜等光電領(lǐng)域及船舶、化工等腐蝕環(huán)境中具有廣泛的應(yīng)用。鈮濺射靶材對(duì)產(chǎn)品的內(nèi)部晶粒尺寸以及表面粗糙度的要求較高,其中軸向方向晶粒大小要求均勻一致,晶粒尺寸50~100μm,表面粗糙度要求Ra≤1.6um,因此研究者對(duì)鈮靶材的生產(chǎn)方法進(jìn)行了深入的研究。例如:公開(kāi)號(hào)為CN102489951A的中國(guó)專利公開(kāi)了一種濺射用鈮管狀靶材的制備方法,該方法包括以下步驟:制備鈮管坯;采用鋼包套將鈮管坯內(nèi)、外壁及兩頭緊密包覆,焊接密封,然后進(jìn)行熱擠壓,得到鈮管靶;將鈮管靶進(jìn)行酸洗和熱處理,即得到鈮管狀靶材。上述方法只是采用熱擠壓的方法對(duì)鈮管坯進(jìn)行加工,從而無(wú)法保證鈮濺射靶材內(nèi)部晶粒組織均勻性和表面粗糙度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明解決的技術(shù)問(wèn)題在于提供一種鈮靶材及其制備方法,通過(guò)本發(fā)明制備的鈮靶材內(nèi)部晶粒組織均勻且具有較低的表面粗糙度值。
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種鈮靶材的制備方法,包括以下步驟:
a)將鈮管坯進(jìn)行預(yù)熱,在預(yù)熱后的鈮管坯表面涂抹玻璃粉;
b)將步驟a)得到的鈮管坯進(jìn)行熱擠壓,將熱擠壓后的鈮管坯進(jìn)行酸洗,將酸洗后的鈮管坯進(jìn)行熱處理;
c)采用第一刀具對(duì)步驟b)得到的鈮管坯的內(nèi)孔進(jìn)行鏜銑,得到鈮靶材;所述第一刀具的刀頭為雙刀頭或單刀頭,所述第一刀具的刀桿的長(zhǎng)度大于5000mm,所述雙刀頭在所述刀桿工作端沿軸線方向依次設(shè)置,所述刀頭的刃傾角為負(fù)值。
優(yōu)選的,所述鈮管坯的制備過(guò)程具體為:
a1)將鈮鑄錠進(jìn)行預(yù)熱,在預(yù)熱后的鈮鑄錠表面涂抹玻璃粉;
a2)將步驟a1)得到的鈮鑄錠進(jìn)行第一次熱鍛造,將第一次熱鍛造后的鈮鑄錠進(jìn)行酸洗,將酸洗后的鈮鑄錠進(jìn)行熱處理;
a3)將步驟a2)得到的鈮鑄錠進(jìn)行鉆孔及車(chē)削外表面,得到鈮管坯。
優(yōu)選的,步驟a2)中所述熱處理之后還包括:
將熱處理后的鈮鑄錠進(jìn)行第二次熱鍛造,將第二次鍛造后的鈮鑄錠再次熱處理。
優(yōu)選的,步驟a)中在預(yù)熱后的鈮管坯表面涂抹玻璃粉之后還包括:
將涂抹玻璃粉的鈮管坯進(jìn)行預(yù)熱,在預(yù)熱后的鈮管坯的表面再次涂抹玻璃粉。
優(yōu)選的,所述鈮管坯進(jìn)行鏜銑之后還包括:
c1)將鏜銑后的鈮管坯的外圓進(jìn)行車(chē)削,所述車(chē)削的第二刀具的前角為30°~40°,后角為4°~6°;主偏角為50°~60°,副偏角為10°~15°;刃傾角為10°~15°;刀尖圓弧半徑為0.3~0.4mm。
優(yōu)選的,所述第一次熱鍛造具體為:
將步驟a1)得到的鈮鑄錠加熱至365℃~472℃,保溫2h~4.5h,將保溫后的鈮鑄錠進(jìn)行鐓粗和拔長(zhǎng)。
優(yōu)選的,步驟a)中所述預(yù)熱的溫度為700℃~950℃。
優(yōu)選的,步驟b)中所述熱擠壓的溫度為1000℃~1300℃,所述熱處理的溫度為930℃~1300℃。
優(yōu)選的,步驟c)中所述刀桿的長(zhǎng)度為5500mm~6500mm。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司,未經(jīng)寧夏東方鉭業(yè)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210551253.9/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一體式自來(lái)水凈水復(fù)合龍頭
- 下一篇:高壓金屬密封式旋塞閥
- 一種數(shù)據(jù)庫(kù)讀寫(xiě)分離的方法和裝置
- 一種手機(jī)動(dòng)漫人物及背景創(chuàng)作方法
- 一種通訊綜合測(cè)試終端的測(cè)試方法
- 一種服裝用人體測(cè)量基準(zhǔn)點(diǎn)的獲取方法
- 系統(tǒng)升級(jí)方法及裝置
- 用于虛擬和接口方法調(diào)用的裝置和方法
- 線程狀態(tài)監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備和存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種JAVA智能卡及其虛擬機(jī)組件優(yōu)化方法
- 檢測(cè)程序中方法耗時(shí)的方法、裝置及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 函數(shù)的執(zhí)行方法、裝置、設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)





