[發明專利]疏水鍍膜液及其所制備的抗污抗指紋鍍膜層的生產工藝無效
| 申請號: | 201210551082.X | 申請日: | 2012-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN103865390A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 方銘國;蕭建仁 | 申請(專利權)人: | 锜瑋科技(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | C09D183/12 | 分類號: | C09D183/12;C09D7/12;C03C17/30;B05D3/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 518104 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 疏水 鍍膜 及其 制備 抗污抗 指紋 生產工藝 | ||
1.一種疏水鍍膜液,其特征在于:包括有
氟硅氧烷????????????????100質量份;
全氟聚醚????????????????0.1~0.5質量份;
蒸餾水或去離子水????????1~20質量份;
醇??????????????????????10~50質量份;
無機酸??????????????????0.1~2質量份。
2.根據權利要求1所述疏水鍍膜液,其特征在于:所述氟硅氧烷的化學結構式為CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-O-Si-(OCH3)3?。
3.根據權利要求1所述疏水鍍膜液,其特征在于:所述全氟聚醚的化學結構式為CF3-O-(CF2-O-CF2-CF2-O)n-CF3?。
4.根據權利要求1所述疏水鍍膜液,其特征在于:所述醇為甲醇或乙醇中的一種或兩種。
5.根據權利要求1所述疏水鍍膜液,其特征在于:所述無機酸為鹽酸或硫酸或硝酸中的一種或幾種。
6.一種應用如權利要求1所述疏水鍍膜液制備的抗污抗指紋鍍膜層的生產工藝,其特征在于:包括如下步驟,
a、首先將需要進行抗污抗指紋鍍膜的基材進行清洗,清洗后在基材的表面上進行羥基化處理;經處理后的基材表面形成有羥基;
b、將疏水鍍膜液倒入噴鍍設備中,并將羥基化后的基材放入噴鍍設備中進行噴鍍作業;
c、將噴鍍后的基材放入烘烤箱中進行烘烤;烘烤溫度為150℃;烘烤時間為30分鐘;
d、最后,將烘烤后的基材取出冷卻10分鐘即得具有抗污抗指紋鍍膜層的基材。
7.根據權利要求6所述的抗污抗指紋鍍膜層的生產工藝,其特征在于:所述基材為玻璃。
8.根據權利要求6所述的抗污抗指紋鍍膜層的生產工藝,其特征在于:所述噴鍍設備采用大氣奈米噴鍍設備。
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C09D183-16 .其中所有的硅原子與氧以外的原子連接





