[發明專利]一種柔性存儲器及制造方法

無效

• 申請號: 201210538715.3
• 申請日: 2012-12-13
• 公開（公告）號: CN103022071A
• 公開（公告）日: 2013-04-03
• 發明（設計）人: 趙毅;施毅;葉向東
• 申請（專利權）人: 南京大學
• 主分類號: H01L27/22
• 分類號: H01L27/22;H01L43/06;H01L43/14
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 陳建和

1.一種柔性存儲器，包括兩個柔性基底，其特征在于，在柔性基底上方依次設有柔性霍爾器件層、粘結層、柔性位導線層、粘結層、柔性字導線層、粘結層、柔性基底；所述的柔性霍爾器件層上的霍爾器件為有磁滯效應的記憶型器件。

2.根據權利要求1所述的柔性存儲器，其特征在于，柔性基底為聚碳酸酯，PC、聚二甲基硅氧烷或硅橡膠PDMS膜，柔性霍爾器件層是二氧化硅硅片上淀積鐵鉑合金霍爾器件；粘結層采用帶有溶劑的聚甲基丙烯酸甲酯加熱使溶劑揮發包覆霍爾器件層的PMMA固化膜。

3.根據權利要求1所述的柔性存儲器，包括兩個柔性基底，其特征在于，柔性位導線層為銀或鋁。

4.根據權利要求1所述的柔性存儲器的制造方法，其特征在于，按以下步驟進行：

(1)采用離心鋪膠或噴膠方法將液態的光刻膠材料涂敷到具有二氧化硅絕緣層的硅片基底表面上，并在二氧化硅表面上均勻分布；

(2)采用表面上包含納米級霍爾器件結構的透明模具,在涂敷光刻膠的基底上壓印，并用紫外光照射固化，形成反形的霍爾器件結構；

(3)采用物理汽相淀積PVD設備及工藝，在已包含反形霍爾器件結構的表面上淀積一層霍爾器件材料，然后采用剝離法將未固化的光刻膠連同其上的霍爾器件材料一并去除，從而在基底的二氧化硅表面形成霍爾器件層；

(4)采用離心鋪膠或噴膠方法將帶有溶劑的聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）均勻涂敷到基底的二氧化硅以及霍爾器件層表面，然后加熱使溶劑揮發，從而在基底的二氧化硅表面上得到包覆霍爾器件層的PMMA固化膜；

(5)用濕法刻蝕，去除基底上的二氧化硅層，從而得到包覆霍爾器件層的PMMA固化膜，即為柔性霍爾器件層；

(6)經過第一次對準，將上述柔性霍爾器件層轉移到柔性襯底上；柔性襯底旋涂一層粘結層，柔性霍爾器件層轉移到粘結層，再使粘結層固化，完成霍爾器件層的轉移和固定；

(7)重復步驟上述的（1）——（5），得到柔性位導線層，其中：步驟（2）里的模具改成包含納米級位導線環形結構的透明模具，步驟（3）里的淀積材料改為導線材料；

(8)經過第二次對準，將柔性位導線層轉移到具有霍爾器件層的柔性襯底上，然后旋涂一層粘結層，再使粘結層固化，完成柔性位導線層的轉移和固定；

(9)重復步驟上述的（1）——（5），得到柔性字導線層，其中：步驟（2）里的模具改成包含納米級字導線環形結構的透明模具，步驟（3）里的淀積材料改為導線材料；

(10)經過第三次對準，將柔性字導線層轉移到具有柔性位導線層的柔性襯底上，然后旋涂一層粘結層，再在其上覆蓋柔性襯底，再使粘結層固化，完成整個柔性存儲器的封裝。

5.根據權利要求4所述的柔性存儲器的制造方法，其特征在于，所述的光刻膠為負性膠。

6.根據權利要求4所述的柔性存儲器的制造方法，其特征在于，在柔性基底和壓印模具上都加工有對準標記。