[發明專利]用于投影光刻機的調焦調平方法有效
| 申請號: | 201210528991.1 | 申請日: | 2012-12-11 |
| 公開(公告)號: | CN103869627A | 公開(公告)日: | 2014-06-18 |
| 發明(設計)人: | 楊曉青;張青云;王帆 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/20 | 分類號: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產權代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 投影 光刻 調焦 平方 | ||
1.一種用于投影光刻機的調焦調平方法,其特征在于,包括:
步驟一:對被測基底進行全局調焦調平,使基底上各個測量場均包含在調焦調平傳感器測量范圍之內;
步驟二:沿步進方向進行第一次掃描,獲取所述各個測量場及各個測量點的第一調焦調平數據;
步驟三:按一定角度旋轉所述被測基底后進行第二次掃描,獲取所述各個測量場及各個測量點的第二調焦調平數據;
步驟四:對步驟三及步驟四中獲取的數據進行求和平均后獲得所述各個測量點的Z向偏移距離,并根據所述Z向偏移距離計算出各個測量場當前位置與調焦調平傳感器本身零平面的Rx,Ry,Z值。
2.如權利要求1所述的一種調焦調平方法,其特征在于,所述步驟三中的一定角度為180度。
3.如權利要求1所述的一種調焦調平方法,其特征在于,所述步驟三中的一定角度為90度。
4.如權利要求3所述的一種調焦調平方法,其特征在于,所述步驟三中還包括:再按照90度旋轉后所述被測基底后進行第三次掃描,獲取所述各個測量場及各個測量點的第三調焦調平數據;再按照90度旋轉后所述被測基底后進行第四次掃描,獲取所述各個測量場及各個測量點的第四調焦調平數據。
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