[發明專利]物理氣相沉積設備

有效

• 申請號: 201210520225.0
• 申請日: 2012-12-06
• 公開（公告）號: CN103849840A
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: 佘清
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種物理氣相沉積設備，包括：上電極，用于放置基片的腔室，位于上電極和所述腔室之間的工藝組件以及固定連接于所述上電極的開蓋架，其中，所述工藝組件與上電極和腔室形成封閉空間進行濺射工藝，其特征在于，所述物理氣相沉積設備，還包括：用于支撐所述開蓋架的支撐結構，所述支撐結構包括：升降支架和軸承座安裝板，其中：

所述軸承座安裝板，固定連接于所述升降支架上端，所述開蓋架通過轉軸固定連接于所述軸承座安裝板；

所述升降支架，用于支撐所述軸承座安裝板上升或下降，所述升降支架的下端與腔室的底面所在平面固定連接；

其中，通過調節所述升降支架自身的高度，使固定連接于所述升降支架上端的軸承座安裝板連同開蓋架、轉軸和上電極同時上升或下降，以便調節所述上電極和所述腔室之間的距離。

2.根據權利要求1所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述物理氣相沉積設備，還包括：

開蓋電機，與所述開蓋架連接，所述開蓋電機用于驅動所述開蓋架帶動所述上電極沿所述轉軸旋轉。

3.根據權利要求1所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述升降支架，包括：底部支撐柱、上部支撐柱和自動調節裝置，其中：

所述上部支撐柱與所述軸承座安裝板固定連接，所述底部支撐柱和上部支撐柱之間通過豎直方向的導軌連接；

所述自動調節裝置，用于驅動所述上部支撐柱沿所述導軌相對所述底部支撐柱運動，以便調節所述升降支架的高度。

4.根據權利要求3所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述底部支撐柱上設置有豎直方向的直筒狀導軌，所述上部支撐柱上設置有豎直方向的圓柱狀滑動部件，所述圓柱狀滑動部件嵌在所述直筒狀導軌中，沿直筒狀導軌滑動。

5.根據權利要求3所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述自動調節裝置為氣動升降裝置，所述氣動升降裝置包括：氣缸、由所述氣缸驅動的升降桿和氣缸安裝板，其中：

所述升降桿的頂端固定連接于所述軸承座安裝板，所述氣缸安裝板與所述底部支撐柱的下端連接，以便于通過所述氣缸驅動所述升降桿的運動調節所述升降支架的高度。

6.根據權利要求3所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述自動調節裝置為電動升降裝置，所述電動升降裝置包括：

豎直方向的絲杠，所述絲杠的頂端固定連接于所述軸承座安裝板；

與所述絲杠螺紋連接的蝸輪；

與所述蝸輪嚙合的蝸桿；

絲杠安裝板，與所述底部支撐柱的下端連接；

電機，所述電機的主軸固定連接于所述蝸桿，用于驅動所述蝸桿旋轉以帶動所述絲杠升降。

7.根據權利要求1所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述升降支架，包括：底部支撐柱和上部支撐柱，其中：

所述上部支撐柱與所述軸承座安裝板固定連接，所述底部支撐柱和上部支撐柱之間通過豎直方向的導軌連接；

所述底部支撐柱為氣動滑臺，所述底部支撐柱直接控制所述上部支撐柱沿豎直方向相對所述底部支撐柱運動。

8.根據權利要求3或5或7中所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述導軌為滾輪導向的導軌或者燕尾槽導向的導軌。

9.根據權利要求1所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述支撐結構，還包括：軸承座，其中：

轉軸固定設置于開蓋架上，軸承座固定設置于軸承座安裝板上，轉軸與軸承座配合設置以使開蓋架可以沿轉軸在軸承座上旋轉。

10.根據權利要求1所述的物理氣相沉積設備，其特征在于，所述軸承座安裝板通過螺釘與所述升降支架上端固定連接。