[發(fā)明專利]部件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210517898.0 | 申請(qǐng)日: | 2012-12-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103178370A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 雨宮直人;赤田智 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 日本壓著端子制造株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01R13/03 | 分類號(hào): | H01R13/03 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 黨曉林;王小東 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 部件 | ||
1.一種部件,該部件在表面形成有鍍層,其特征在于,該部件具有:
主體部,其由金屬材料形成;
底鍍層,其包括由Ni或Ni合金形成的Ni鍍層,并且以被覆所述主體部的表面的方式形成;
多孔鍍層,其以被覆所述底鍍層的表面的方式形成,并且構(gòu)成為多孔質(zhì)體,所述多孔質(zhì)體中分散形成有多孔構(gòu)造,該多孔構(gòu)造設(shè)置為孔和空隙中的至少任意一方;以及
表層鍍層,其形成于所述多孔鍍層的表面,并且露出于外部,
所述表層鍍層被設(shè)置為,其能夠使在所述多孔鍍層的表面上分散形成的所述多孔構(gòu)造露出于外部,
形成所述表層鍍層的金屬的離子化傾向小于形成所述多孔鍍層的金屬的離子化傾向。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的部件,其特征在于,該部件是作為電子部件而設(shè)置的,其具有與其它部件電連接的電觸點(diǎn)部,而且在表面形成有鍍層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的部件,其特征在于,在露出于外部的所述多孔構(gòu)造中填充有具有潤(rùn)滑性的潤(rùn)滑物質(zhì)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的部件,其特征在于,所述潤(rùn)滑物質(zhì)以微粒狀的形式被埋入到露出于外部的所述多孔構(gòu)造中,由此來(lái)進(jìn)行填充。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的部件,其特征在于,所述潤(rùn)滑物質(zhì)包括氮化硼、鉬、石墨、硅石、氟樹(shù)脂及金剛石中的至少任意一種。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于日本壓著端子制造株式會(huì)社,未經(jīng)日本壓著端子制造株式會(huì)社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210517898.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:節(jié)能防盜門
- 下一篇:干擾素類制藥廢水酶氧化處理裝置





