[發(fā)明專(zhuān)利]圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)制造設(shè)備及方法、盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210465943.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103128907A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 大石裕之 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 索尼公司;索尼信息技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B29C45/14 | 分類(lèi)號(hào): | B29C45/14;B29C59/02;B29C37/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王萍;李春暉 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 圖案 介質(zhì) 制造 設(shè)備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本技術(shù)涉及制造使用沖壓機(jī)通過(guò)注射壓縮成型將需要的凸凹圖案轉(zhuǎn)印到其上的轉(zhuǎn)印介質(zhì)的設(shè)備和方法,還涉及圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)(盤(pán)狀或任意形狀)。
背景技術(shù)
日本未審專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)No.2008-170534和日本未審專(zhuān)利申請(qǐng)公開(kāi)No.2007-001290是相關(guān)技術(shù)的例子。
例如,公開(kāi)了各種生物芯片,如DNA微陣列和微通道。
圖11是示意性示出生物芯片外觀的一個(gè)例子的視圖。
如該圖中所示,該生物芯片呈現(xiàn)例如板狀外觀,并且在該生物芯片的表面上形成凹凸圖案,如精細(xì)通道(該圖中的“圖案”)。
在當(dāng)前情況下,像這樣的板狀生物芯片的制造是通過(guò)使用流道(runner)方法的注射壓縮成型進(jìn)行的,該流道方法使用如圖12中所示的多邊形成型模具部103。
具體地,在該流道方法中,從該圖中的池部101以熔化狀態(tài)引入熱塑材料,并且經(jīng)由流道部102將其注射到每個(gè)成型模具部103中(該圖中的103A至103D)。之后,進(jìn)行加壓和冷卻,并且從模具取出成型材料。
此外,為了確認(rèn)的目的,該成型模具部103的形狀是多邊形形狀,以制造板狀生物芯片。
發(fā)明內(nèi)容
然而,在上述流道方法中,由于圖12中所示的由熱塑材料制成的注射口(口)Gt設(shè)置在成型模具部103的側(cè)壁部分中,所以存在該材料難以擴(kuò)展到對(duì)應(yīng)的成型模具部103內(nèi)的每個(gè)角落的趨勢(shì)。
在這方面,施加比較大的壓力是必要的,以使成型后的該芯片的平面厚度均勻。例如,在約±0.6μm的平面厚度公差是必要時(shí)的情況下,需要100t級(jí)別的壓力。
此外,與此同時(shí),需要比較長(zhǎng)的施加壓力以使平面厚度均勻的時(shí)間,例如,生產(chǎn)節(jié)拍時(shí)間(tact?time)需要至少30秒或以上。
因此,根據(jù)該相關(guān)技術(shù)的流道方法,需要相對(duì)較長(zhǎng)的處理時(shí)間,以產(chǎn)生精細(xì)加工的生物芯片如高精度的生物芯片,并且就提高生產(chǎn)率來(lái)說(shuō)存在缺點(diǎn)。
此外,在該流道方法的情況下,就成型之后的芯片來(lái)說(shuō),連接到流道部102的連接部被切削(切除),但是存在在產(chǎn)品方面余留有該切削痕跡的問(wèn)題。另外,盡管通過(guò)例如切削修整(弄平)了對(duì)應(yīng)的切削痕跡,但是需要較多的時(shí)間和成本。
關(guān)于諸如生物芯片等其上轉(zhuǎn)印有精細(xì)凹凸圖案的圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)的制造,期望實(shí)現(xiàn)制造時(shí)間的縮短,同時(shí)確保成型精度。
在本技術(shù)中,圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)制造設(shè)備被配置如下。
也就是說(shuō),根據(jù)本技術(shù)的實(shí)施例,提供一種圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)制造設(shè)備,包括盤(pán)注射壓縮成型單元,其使用盤(pán)成型模具和盤(pán)狀沖壓機(jī)通過(guò)注射壓縮成型形成盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)。
此外,還包括切削單元,其將通過(guò)注射壓縮成型的轉(zhuǎn)印而形成的盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)上的凸凹圖案部的周邊作為目標(biāo)物進(jìn)行切削。
此外,根據(jù)本技術(shù)的另一實(shí)施例,提供一種圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)制造方法,包括:使用盤(pán)成型模具和盤(pán)狀沖壓機(jī)通過(guò)注射壓縮成型形成盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì);在通過(guò)所述注射壓縮成型的轉(zhuǎn)印而形成的作為目標(biāo)物的盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)上的凸凹圖案部的周邊進(jìn)行切削。
此外,根據(jù)本技術(shù)的另一實(shí)施例,提供一種具有盤(pán)狀外觀的盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)。所述盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)具有轉(zhuǎn)印到至少其表面上的預(yù)定凹凸圖案。另外,所述凹凸圖案的轉(zhuǎn)印部的周邊被按照任意形狀裁切,并因此與介質(zhì)的主要部分的連接被切斷。
此外,根據(jù)本技術(shù)的再一實(shí)施例,提供一種通過(guò)如下方式制造的圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì):使用盤(pán)成型模具和盤(pán)狀沖壓機(jī)通過(guò)注射壓縮成型形成盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì);將通過(guò)所述注射壓縮成型的轉(zhuǎn)印而形成的盤(pán)狀圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)上的凸凹圖案部的周邊作為目標(biāo)物進(jìn)行切削。
由于上文描述的本技術(shù)使用盤(pán)成型模具和盤(pán)狀沖壓機(jī)進(jìn)行注射壓縮成型,所以例如可以使用與在生產(chǎn)光盤(pán)存儲(chǔ)介質(zhì)(在下文中稱(chēng)為光盤(pán))如CD(壓縮盤(pán))、DVD(數(shù)字多用途盤(pán))、BD(Blu-lay?Disc:注冊(cè)商標(biāo))的襯底時(shí)所使用的相同的注射成型處理。
由于以這種方式使用與光盤(pán)相同的注射成型處理,所以圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)的成型材料可以從模具的中央部(即盤(pán)的中央部)成放射狀地注射,并且對(duì)應(yīng)的成型材料可以容易地?cái)U(kuò)展到模具內(nèi)的每個(gè)角落。
因此,與流道方法(多邊形成型)的情況相比,使平面厚度均勻所需的壓力可以較小,或者使平面厚度均勻所需的壓力施加時(shí)間也可以較短。結(jié)果,可以實(shí)現(xiàn)工作節(jié)拍時(shí)間的縮短。
此外,由于當(dāng)使用與光盤(pán)相同的注射成型處理時(shí),伴隨著打孔處理以形成中心孔,注射口周邊的連接部被切削,所以在該圖案轉(zhuǎn)印介質(zhì)上不會(huì)留下切削痕跡,并且可以不需要對(duì)切削痕跡的專(zhuān)門(mén)修整處理。因此,也可以實(shí)現(xiàn)制造時(shí)間的縮短。
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