[發明專利]一種補償鏡頭畸變造成的套刻誤差的方法

有效

• 申請號: 201210458271.2
• 申請日: 2012-11-15
• 公開（公告）號: CN102955379B
• 公開（公告）日: 2017-02-01
• 發明（設計）人: 袁偉
• 申請（專利權）人: 上海集成電路研發中心有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F9/00
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙)31275
• 代理人: 吳世華,林彥之

1.一種補償光刻機鏡頭畸變造成的套刻誤差的方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟S01：制作基準光刻版版圖；?

步驟S02：使用基準光刻機和所述的基準光刻版制作基準硅片；

步驟S03：利用所述的基準光刻版和所述的基準硅片在需要補償鏡頭畸變的光刻機上進行光刻；

步驟S04：測量所述的需要補償鏡頭畸變的光刻機與所述的基準光刻機之間的鏡頭畸變造成的套刻誤差；

步驟S05：將所述的鏡頭畸變造成的套刻誤差擬合為高階多項式，繪出鏡頭畸變擬合曲線；

步驟S06：利用所述的鏡頭畸變擬合曲線對產品光刻版版圖的圖形位置進行重新計算、矯正和布圖，從而對鏡頭畸變引起的硅片上的套刻誤差進行補償。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述基準光刻版的包含多個預設的測量標記，所述測量標記沿X方向和Y方向呈陣列排布。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述的鏡頭畸變造成的套刻誤差是通過測量所述需要補償鏡頭畸變的光刻機與所述基準光刻機在曝光場內各所述測量標記處的套刻差異，再去除需要補償鏡頭畸變的光刻機和基準光刻機的X、Y方向的步進誤差后得到的。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述鏡頭畸變擬合曲線為高階多項式，其表述的是曝光場中任意一個位置的X方向坐標與該位置所對應的套刻誤差的關系。

5.根據權利要求4所述的方法，其特征在于，所述的鏡頭畸變擬合曲線中的X方向坐標對應的Y值為該X方向坐標對應的鏡頭畸變造成套刻誤差。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，對所述產品光刻版版圖的圖形位置進行重新計算、矯正和布圖，其方法為：首先，對所述產品光刻版版圖進行分割得到分割單元，所述分割單元為多條寬度相同的豎條狀或面積相同的塊狀；然后將每個所述分割單元對應的套刻誤差的數值反補到該分割單元所在圖形中的位置上；以此類推，對所述產品光刻版版圖的圖形位置進行重新矯正和布圖。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在對所述產品光刻版版圖的圖形位置重新計算、矯正和布圖之后，通過進行設計規則檢查，對分割單元之間不連續的位置或間隙處進行進一步修正，將不連續的分割單元重新連接完整，從而得到補償后的產品光刻版版圖圖形。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，對所述產品光刻版版圖的圖形位置重新進行計算、矯正和布圖時是借助計算軟件來完成的。