[發明專利]表面功能化的納米上轉換材料用于潛在指紋的顯現

無效

• 申請號: 201210454769.1
• 申請日: 2012-11-14
• 公開（公告）號: CN102920462A
• 公開（公告）日: 2013-02-13
• 發明（設計）人: 王軍;高瑞;朱玉亮
• 申請（專利權）人: 江蘇警官學院;南京工業大學
• 主分類號: A61B5/117
• 分類號: A61B5/117;C09K11/02;G01N21/64
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1.納米上轉換材料進行醛基修飾后在潛在指紋顯現方面的應用，具體步驟如下：對納米上轉換材料進行堿化處理、氨基硅烷化修飾、醛基化修飾、用粉末法或懸浮液法對不同客體表面的潛在指紋進行顯現。

2.醛基化修飾的納米上轉換材料粉末用于潛在指紋顯現的方法，其特征是：

用粉末法顯現光滑客體表面潛在指紋時，用毛刷蘸少量粉末，輕刷客體表面、去除過多粉末后，在980nm波長紅外光照射下，上轉換材料發出可見的有色熒光，可直接拍照保存；

用懸浮液法顯現粗糙表面潛在指紋時，按質量體積比W/V為0.5～3％的粉末放入水中，超聲2～3分鐘，將檢材放入分散液中浸泡1～10分鐘，用蒸餾水將表面多余溶液沖洗去除，在980nm波長紅外光照射下，上轉換材料發出可見的有色熒光，可直接拍照保存。

3.表面修飾有醛基的納米上轉換材料的修飾方法，其特征在于步驟和方法如下：

1)堿化處理：用堿液浸泡處理納米上轉換材料，得到表面富含羥基的納米上轉換材料，具體操作為：

0.5～2mol/L的NaOH或KOH溶液浸泡處理納米上轉換材料2～4小時，用蒸餾水清洗至PH值6.5～7.0后，加入到0.5～2mol/L的稀鹽酸溶液中，浸泡0.5～2小時，以去除溶液中殘留的NaOH或KOH，用蒸餾水清洗至PH值6.5～7.0，120℃真空干燥至恒重，備用；

2)氨基硅烷化修飾：堿化處理得到的表面富含羥基的納米上轉換材料，與3-氨基丙基三乙氧基硅烷(KH550)反應，使材料表面連接上氨基(-NH2)官能團；具體操作為：

將堿化處理的納米上轉換材料均勻分散在無水乙醇中，加入乙酸調節PH值至3～5，每0.1g堿化處理的納米上轉換材料加入0.01～0.02g含量≥97％的3-氨基丙基三乙氧基硅烷(KH550)，于30～80℃反應8～15小時，過濾，用蒸餾水清洗3次，120℃真空干燥至恒重，備用；

3)表面帶有氨基的納米上轉換材料，與戊二醛或對苯二甲醛或鄰苯二甲醛或間苯二甲醛等醛基化試劑的磷酸緩沖液反應，得到表面連接有醛基的納米上轉換材料；具體操作為是：每0.1g氨基化的納米上轉換材料加入0.001～0.002mol醛基化試劑進行醛基化修飾，調節磷酸緩沖液PH值6～8，30～40℃反應1.5～3小時，反應完畢，將納米上轉換材料用蒸餾水洗凈，120℃真空干燥至恒重，備用。