[發明專利]一種間斷脈沖電鍍Ni-W-納米CeF3復合鍍層的方法

無效

• 申請號: 201210453519.6
• 申請日: 2012-11-12
• 公開（公告）號: CN103806055A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 劉茂見
• 申請（專利權）人: 無錫三洲冷軋硅鋼有限公司
• 主分類號: C25D5/18
• 分類號: C25D5/18;C25D15/00;C25D3/56
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 武春華

1.一種間斷脈沖電鍍Ni-W-納米CeF₃復合鍍層的電鍍方法，包括：

間斷脈沖電鍍參數為：工作時間2-4ms，停止時間1-2ms，脈沖頻率800-1200Hz，占空比0.1-0.3，平均電流密度0.5-2A/dm2。

2.一種間斷脈沖電鍍Ni-W-納米CeF₃復合鍍層的電鍍方法，其特征在于，包括如下步驟：

先對納米CeF₃顆粒進行分散處理，并配成在55～80℃穩定的懸濁電鍍液，然后對玻璃模具表面進行預處理，再將玻璃模具浸入懸濁電鍍液中，在攪拌下進行間斷脈沖電鍍，所述懸濁電鍍液包含作為主鹽的鎢酸鹽和Ni的氨基磺酸鹽、作為絡合劑的檸檬酸銨、以及納米CeF₃微粒；所述的間斷脈沖電鍍參數為：工作時間2-4ms，停止時間1-2ms，脈沖頻率800-1200Hz，占空比0.1-0.3，平均電流密度0.5-2A/dm2。

3.根據權利要求2所述的電鍍方法，其特征在于，所述納米CeF₃顆粒分散處理包括：先將納米CeF₃顆粒放入丙酮中，超聲分散15～20分鐘，再烘干，然后加入去離子水，再加入共沉積促進劑0.1～1.0g/L、助分散劑0.3～0.6g/L，超聲分散1～2小時，得納米CeF₃顆粒分散液。

4.根據權利要求2所述的電鍍方法，其特征在于，所述懸濁電鍍液的配制過程包括：先將含Ni-W的鍍液加熱到電鍍溫度55～80℃，并加入助分散劑0.5～1.0g/L，攪拌加熱15～20分鐘。再將分散處理后的納米CeF₃顆粒分散液逐滴加入到所述鍍液中，同時對所述鍍液進行超聲攪拌，即配成在55～80℃穩定分散的懸濁電鍍液。

5.根據權利要求4所述的電鍍方法，其特征在于，所述懸濁電鍍液的組分和含量為：Na₂WO₄·2H₂O?30～40g/L，Ni(NH₂SO₃)₂20～35g/L，(NH₄)₃C₆H₅O₇·H₂O53～80g/L，共沉積促進劑0.1～1.0g/L，助分散劑0.8～1.6g/L，納米CeF₃微粒5～50g/L。

6.根據權利要求5所述的電鍍方法，其特征在于，所述共沉積促進劑為乙二胺、十六烷基三甲基溴化銨、多乙烯多胺中的一種或幾種的任意組合；所述助分散劑為辛基苯基聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚或壬基酚聚氧乙烯醚中的任何一種。

7.根據權利要求2所述的電鍍方法，其特征在于，所述懸濁電鍍液pH值為6～8，所述納米CeF₃微粒的粒度為25～40nm，電鍍時攪拌速度為150～250rpm，溫度55～80℃，電流密度為1～8A/dm²。

8.根據權利要求4所述的電鍍方法，其特征在于，所述懸濁電鍍液pH值為6～8，所述納米CeF₃微粒的粒度為25～40nm，電鍍時攪拌速度為150～250rpm，溫度55～80℃，電流密度為1～8A/dm²。

9.根據權利要求5所述的電鍍方法，其特征在于，所述懸濁電鍍液pH值為6～8，所述納米CeF₃微粒的粒度為25～40nm，電鍍時攪拌速度為150～250rpm，溫度55～80℃，電流密度為1～8A/dm²。

10.根據權利要求6所述的電鍍方法，其特征在于，所述懸濁電鍍液pH值為6～8，所述納米CeF₃微粒的粒度為25～40nm，電鍍時攪拌速度為150～250rpm，溫度55～80℃。