[發明專利]一種去除光阻殘留物的清洗液

在審

• 申請號: 201210451120.4
• 申請日: 2012-11-12
• 公開（公告）號: CN103809393A
• 公開（公告）日: 2014-05-21
• 發明（設計）人: 劉兵;彭洪修;孫廣勝;顏金荔;徐海玉
• 申請（專利權）人: 安集微電子科技（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/42
• 分類號: G03F7/42
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種去除光阻蝕刻殘留物的清洗液，其特征在于，所述清洗液包括醇胺，有機溶劑，沒食子酸及其酯以及3-氨基-1,2,4-三氮唑。

2.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述醇胺的含量為5-50wt%。

3.如權利要求2所述的清洗液，其特征在于，所述醇胺的含量為10-45wt%。

4.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述有機溶劑的含量為40-90wt%。

5.如權利要求4所述的清洗液，其特征在于，所述有機溶劑的含量為50-85wt%。

6.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述沒食子酸及其酯的含量為0.05-5wt%。

7.如權利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述沒食子酸及其酯的含量為0.1-3wt%。

8.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述3-氨基-1,2,4-三氮唑的含量為0.01-5wt%。

9.如權利要求8所述的清洗液，其特征在于，所述3-氨基-1,2,4-三氮唑的含量為0.05-3wt%。

10.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺選自單乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺中的一種或多種。

11.如權利要求10所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺選自乙醇胺、二甘醇胺及其混合物。

12.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的有機溶劑選自亞砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一種或多種。

13.如權利要求12所述的清洗液，其特征在于，所述的亞砜選自二甲基亞砜和甲乙基亞砜中的一種或多種；所述的砜選自甲基砜、環丁砜中的一種或多種；所述的咪唑烷酮選自2-咪唑烷酮和1,3-二甲基-2-咪唑烷酮中的一種或多種；所述的吡咯烷酮選自N-甲基吡咯烷酮、N-環己基吡咯烷酮和N-羥乙基吡咯烷酮中的一種或多種；所述的咪唑啉酮選自1,3-二甲基-2-咪唑啉酮；所述的酰胺選自二甲基甲酰胺和二甲基乙酰胺中的一種或多種；所述的醇醚選自乙二醇烷基醚、丙二醇烷基醚中的一種或多種。

14.如權利要求13述的清洗液，其特征在于，所述的乙二醇烷基醚為乙二醇單乙醚、二乙二醇單甲醚和二乙二醇單丁醚中的一種或多種；所述的丙二醇烷基醚為丙二醇單甲醚、丙二醇單丁醚和二丙二醇單甲醚中的一種或多種。

15.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的沒食子酸及其酯選自沒食子酸、沒食子酸甲酯、沒食子酸乙酯、沒食子酸丁酯、沒食子酸辛酯、沒食子酸月桂酯、1-沒食子酸甘油酯中的一種或多種。

16.如權利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述清洗液不含有有水、羥胺和/或氟化物。