[發明專利]曝光裝置及固化膜的形成方法

有效

• 申請號: 201210448646.7
• 申請日: 2012-09-28
• 公開（公告）號: CN103034070A
• 公開（公告）日: 2013-04-10
• 發明（設計）人: 香川英章;佐野貴之;沖和宏
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F7/00
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 張楠;陳建全

技術領域

本發明涉及曝光裝置及固化膜的形成方法。

背景技術

已知有向涂布在撓性料片上的含有光固化劑的固化性膜照射固化光以使固化性膜固化的曝光裝置。例如，在日本特開昭63-194779號公報的曝光裝置中，為了防止固化引起的固化性膜的褶皺，將照射固化光的區域設定為被支撐輥支撐的部分。

還已知有例如日本特開平10-10745號公報中記載的曝光裝置那樣，使用配置于光源和固化性膜之間的光掩膜板僅對固化性膜的局部照射固化光的曝光裝置。在日本特開平10-10745號公報中記載的光掩膜板上，設置有分別在料片的長度方向(輸送方向)上延伸且在料片的寬度方向排列的多個狹縫。根據日本特開平10-10745號公報的曝光裝置，能夠在固化性膜中形成因曝光而進行了固化的線狀的曝光部分、以及由于未曝光而未進行固化的線狀的未曝光部分交替排列的、所謂的條紋狀的曝光圖案。這樣獲得的帶固化膜的撓性料片用于濾色器等的彩色圖案(color?pattern)或遮光圖案等中。

可是，在使用日本特開平10-10745號公報中記載的那樣的曝光裝置進行曝光的情況下，必須避免設定于未曝光部分的區域也產生曝光(下面稱為灰霧故障)的情況。因此，必須減小光掩膜板和支撐輥之間的間隙。

但是，在使光掩膜板靠近支撐輥的情況下，由于支撐輥的形狀，料片的長度方向兩端部的光掩膜板和支撐輥之間的間隙(gap)比料片的長度方向中央部大。因此，當增長料片的長度方向的狹縫的長度時，在狹縫的兩端部，灰霧故障成為問題。因此，料片的長度方向的狹縫的長度需要盡可能縮短。

另一方面，在使用料片的長度方向的狹縫的長度短的光掩膜板進行固化性膜的固化的情況下，需要更高照度的光源。然而，當使用高照度的光源進行固化性膜的固化時，多發生灰霧故障。

發明內容

發明者銳意研究的結果是，查明了灰霧故障起因于被支撐輥及光掩膜板的支撐部件反射的固化光。本發明的目的在于提供一種抑制灰霧故障、并且可獲得良好的曝光圖案的曝光裝置及固化膜的形成方法。

為了達到上述目的，本發明的曝光裝置具備金屬制的支撐輥、光源、光掩膜板、掩膜支撐板。支撐輥具有對表面形成有光固化性膜的撓性料片(flexible?web)的背面進行支撐的周面，輸送所支撐的撓性料片。光源朝向所支撐的撓性料片上的光固化性膜放出固化光。光掩膜板以與支撐輥靠近的方式配置于光源和支撐輥之間。光掩膜板具有向撓性料片的輸送方向延伸且在撓性料片的寬度方向排列的多個狹縫，遮擋固化光。掩膜支撐板配置于光掩膜板和支撐輥之間，支撐光掩膜板。掩膜支撐板的支撐輥側的面或/及所述支撐輥的周面與光掩膜板的支撐輥側的面相比，固化光更容易散射。

掩膜支撐板的支撐輥側的面的表面粗糙度Ry(Rmax)優選0.5μm以上100μm以下。

支撐輥的周面的表面粗糙度Ry(Rmax)優選0.5μm以上100μm以下。

本發明的固化膜的形成方法具有向在輸送中的撓性料片上形成的光固化性膜照射固化光的固化光照射工序，使用具備金屬制的支撐輥、光源、光掩膜板及掩膜支撐板的曝光裝置進行該固化光照射工序，從而在撓性料片上形成固化性膜。支撐輥具有對表面形成有光固化性膜的撓性料片的背面進行支撐的周面，輸送所支撐的撓性料片。光源向所支撐的撓性料片上的光固化性膜放出固化光。光掩膜板具有多個狹縫。多個狹縫各自向撓性料片的輸送方向延伸。多個狹縫沿撓性料片的寬度方向排列。光掩膜板以與支撐輥靠近的方式配置于光源和支撐輥之間，遮擋固化光。掩膜支撐板配置于光掩膜板和支撐輥之間，支撐光掩膜板。掩膜支撐板的支撐輥側的面、或/及所述支撐輥的周面與光掩膜板的支撐輥側的面相比，固化光更容易散射。

掩膜支撐板的支撐輥側的面的表面粗糙度Ry(Rmax)優選0.5μm以上100μm以下。

支撐輥的周面的表面粗糙度Ry(Rmax)優選0.5μm以上100μm以下。

根據本發明，能夠抑制灰霧故障，并且能夠獲得良好的曝光圖案。

附圖說明

上述目的、優點通過參照添付的附圖，閱讀優選的實施例的詳細說明，本領域技術人員能夠容易理解。

圖1是表示固化膜形成設備的概要的說明圖。

圖2是表示曝光機的概要的立體圖。

圖3是表示曝光機的概要的局部剖面圖。

圖4是表示曝光機的概要的分解立體圖。

圖5是表示光掩膜板及掩膜支撐板的概要的剖面圖。

圖6是表示光掩膜板的概要的平面圖。