[發(fā)明專利]光源裝置、顯示裝置和電子設(shè)備無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210446943.8 | 申請日: | 2012-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN103105697A | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鈴木弘真;鈴木守 | 申請(專利權(quán))人: | 索尼公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357;G02B27/22;G02B6/00;F21S8/00;F21V8/00 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 柳春雷 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光源 裝置 顯示裝置 電子設(shè)備 | ||
1.一種顯示裝置,包括:
顯示部,其被配置為顯示圖像;和
光源裝置,其用于向所述顯示部發(fā)出用于顯示所述圖像的光;
其中,所述光源裝置包括:
第一光源,其用于施加第一照明光,和
導(dǎo)光板,其具有多個散射區(qū),通過在所述多個散射區(qū)中散射從所述導(dǎo)光板側(cè)面的方向施加的所述第一照明光,所述導(dǎo)光板將所述第一照明光發(fā)射到外部,并且
通過在所述散射區(qū)的表面形成多個凹陷和凸出形狀或在所述散射區(qū)中散布光散射材料來給所述散射區(qū)增加光散射特性,所述散射區(qū)內(nèi)的凹陷和凸出形狀的密度或光散射材料的濃度根據(jù)位置而改變。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,
其中,所述散射區(qū)內(nèi)的所述凹陷和凸出形狀的密度或所述光散射材料的濃度根據(jù)離所述第一光源的距離而改變。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置,
其中,所述散射區(qū)內(nèi)的所述凹陷和凸出形狀的密度或所述光散射材料的濃度隨著離所述第一光源的距離的增大而增大。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,
其中,所述凹陷和凸出形狀的密度或所述光散射材料的濃度在水平方向上的中心部分方向相對高于外圍部分方向。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,
其中,所述第一光源被布置為與所述導(dǎo)光板的預(yù)定側(cè)相對,所述凹陷和凸出形狀的密度或所述光散射材料的濃度根據(jù)離所述預(yù)定側(cè)的距離而改變。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,
其中,多個所述散射區(qū)在水平方向被排列為相互平行的條狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,還包括第二光源,所述第二光源被布置為與所述導(dǎo)光板相對并從與第一光源的方向不同的方向向所述導(dǎo)光板施加第二照明光。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示設(shè)備,
其中,所述顯示部選擇性地選擇和顯示基于三維圖像數(shù)據(jù)的多個視點圖像和基于二維圖像數(shù)據(jù)的圖像,并且
當(dāng)所述顯示部顯示所述多個視點圖像時,所述第二光源被控制為不發(fā)光狀態(tài),而當(dāng)所述顯示部顯示所述基于二維圖像數(shù)據(jù)的圖像時,所述第二光源被控制在發(fā)光狀態(tài)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的顯示設(shè)備,
其中,當(dāng)所述顯示部顯示所述多個視點圖像時,所述第一光源被控制為發(fā)光狀態(tài),而當(dāng)所述顯示部顯示所述基于二維圖像數(shù)據(jù)的圖像時,所述第一光源被控制為不發(fā)光狀態(tài)或者發(fā)光狀態(tài)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,還包括光學(xué)裝置,所述光學(xué)裝置相對于所述導(dǎo)光板被布置在與所述第一照明光的發(fā)射方向相反的一側(cè),所述光學(xué)裝置能夠選擇性地將對入射光線所執(zhí)行的動作切換到兩個狀態(tài),即光吸收狀態(tài)以及散射和反射狀態(tài)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置,還包括光學(xué)裝置,所述光學(xué)裝置相對于所述導(dǎo)光板被布置在所述第一照明光的發(fā)射方向,所述光學(xué)裝置能夠選擇性地將對入射光線所執(zhí)行的動作切換到兩個狀態(tài),即透明狀態(tài)以及散射和透射狀態(tài)。
12.一種光源裝置,包括:
第一光源,其用于施加第一照明光;和
導(dǎo)光板,其具有多個散射區(qū),通過在所述多個散射區(qū)中散射從所述導(dǎo)光板的側(cè)面的方向施加的所述第一照明光,所述導(dǎo)光板將所述第一照明光發(fā)射到外部;
其中,通過在所述散射區(qū)的表面形成多個凹陷和凸出形狀或在所述散射區(qū)中散布光散射材料來給所述散射區(qū)增加光散射特性,所述散射區(qū)內(nèi)的所述凹陷和凸出形狀的密度或所述光散射材料的濃度根據(jù)位置而改變。
13.一種電子設(shè)備,其包括:
顯示裝置;
其中,所述顯示裝置包括:
顯示部,其被配置為顯示圖像,和
光源裝置,其用于向所述顯示部發(fā)出用于顯示所述圖像的光,
所述光源裝置包括:
第一光源,其用于施加第一照明光,和
導(dǎo)光板,其具有多個散射區(qū),通過在所述多個散射區(qū)中散射從所述導(dǎo)光板的側(cè)面的方向施加的所述第一照明光,所述導(dǎo)光板將所述第一照明光發(fā)射到外部,并且
通過在所述散射區(qū)的表面形成多個凹陷和凸出形狀或在所述散射區(qū)中散布光散射材料來給所述散射區(qū)增加光散射特性,所述散射區(qū)內(nèi)的所述凹陷和凸出形狀的密度或所述光散射材料的濃度根據(jù)位置而改變。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





