[發明專利]基板處理裝置

無效

• 申請號: 201210445846.7
• 申請日: 2012-11-09
• 公開（公告）號: CN103107058A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發明（設計）人: 花輪健一
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01J37/24
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種基板處理裝置，其為利用通過高頻電力產生的等離子體對基板進行處理的等離子體處理裝置，所述基板處理裝置的特征在于，包括：

產生高頻電力的高頻電源；

等離子體生成電極，其用于被從所述高頻電源供給高頻電力而生成等離子體；

單一的匹配器，其設置在所述高頻電源與所述等離子體生成電極之間，使傳送路徑的阻抗與負載的阻抗匹配；和

阻抗調整電路，其設置在所述匹配器與所述等離子體生成電極之間，對它們之間的阻抗進行調整，

所述匹配器將等離子體和所述阻抗調整電路作為一個負載取得阻抗的匹配，通過利用所述阻抗調整電路對阻抗進行調整，將所述匹配器的輸出阻抗調整為比等離子體的阻抗高的規定的值。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述阻抗調整電路具有一個可變電容，通過所述可變電容對阻抗進行調整。

3.如權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述阻抗調整電路還具有一個以上的固定電容，通過所述固定電容進行阻抗的微調整。

4.如權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述固定電容以能夠切換的方式設置，能夠根據需要選擇任一個或兩個以上。

5.一種基板處理裝置，其為利用通過高頻電力產生的等離子體對基板進行處理的等離子體處理裝置，所述基板處理裝置的特征在于，包括：

產生高頻電力的高頻電源；

等離子體生成電極，其具有第一供電點和設置在與該第一供電點相對的位置的第二供電點，被從所述高頻電源對所述第一供電點和所述第二供電點供給高頻電力而生成等離子體；

單一的匹配器，其設置在所述高頻電源與所述等離子體生成電極之間，使傳送路徑的阻抗與負載的阻抗匹配；

第一阻抗調整電路，其設置在所述匹配器與所述第一供電點之間，對它們之間的阻抗進行調整；和

第二阻抗調整電路，其設置在所述匹配器與所述第二供電點之間，對它們之間的阻抗進行調整，

所述匹配器將等離子體和所述第一阻抗調整電路以及所述第二阻抗調整電路作為一個負載取得阻抗的匹配，通過利用所述第一阻抗調整電路以及所述第二阻抗調整電路對阻抗進行調整，將所述匹配器的輸出阻抗調整為比等離子體的阻抗高的規定的值。

6.一種基板處理裝置，其為利用通過高頻電力產生的等離子體對多個基板進行處理的等離子體處理裝置，所述基板處理裝置的特征在于，包括：

產生高頻電力的高頻電源；

與所述多個基板中的各個基板對應地設置，用于被從所述高頻電源供給高頻電力而生成等離子體的多個等離子體生成電極；

單一的匹配器，其設置在所述高頻電源與所述多個等離子體生成電極之間，使傳送路徑的阻抗與負載的阻抗匹配；和

設置在所述匹配器與所述多個等離子體生成電極中的各個等離子體生成電極之間，對它們之間的阻抗進行調整的多個阻抗調整電路，

所述匹配器將等離子體和所述多個阻抗調整電路作為一個負載取得阻抗的匹配，通過利用所述多個阻抗調整電路對阻抗進行調整，將所述匹配器的輸出阻抗調整為比等離子體的阻抗高的規定的值。

7.一種基板處理裝置，其為利用通過高頻電力產生的等離子體對多個基板進行處理的等離子體處理裝置，所述基板處理裝置的特征在于，包括：

產生高頻電力的高頻電源；

與所述多個基板中的各個基板對應地設置，具有第一供電點和設置在與該第一供電點相對的位置的第二供電點，被從所述高頻電源對所述第一供電點和所述第二供電點供給高頻電力而生成等離子體的多個等離子體生成電極；

單一的匹配器，其設置在所述高頻電源與所述多個等離子體生成電極之間，使傳送路徑的阻抗與負載的阻抗匹配；

在所述多個等離子體生成電極的各個等離子體生成電極中，設置在所述匹配器與所述第一供電點之間，對它們之間的阻抗進行調整的多個第一阻抗調整電路；和

在所述多個等離子體生成電極的各個等離子體生成電極中，設置在所述匹配器與所述第二供電點之間，對它們之間的阻抗進行調整的多個第二阻抗調整電路，

所述匹配器將等離子體和所述多個第一阻抗調整電路以及所述多個第二阻抗調整電路作為一個負載取得阻抗的匹配，通過利用所述多個第一阻抗調整電路以及所述多個第二阻抗調整電路對阻抗進行調整，將所述匹配器的輸出阻抗調整為比等離子體的阻抗高的規定的值。