[發(fā)明專利]垂直氮化鎵肖特基二極管有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210443424.6 | 申請(qǐng)日: | 2012-11-08 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103107204A | 公開(公告)日: | 2013-05-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱廷剛;安荷·叭剌;黃平;何約瑟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 萬國(guó)半導(dǎo)體股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L29/872 | 分類號(hào): | H01L29/872;H01L23/485 |
| 代理公司: | 上海信好專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31249 | 代理人: | 張靜潔;徐雯瓊 |
| 地址: | 美國(guó)加利福尼亞桑*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 垂直 氮化 鎵肖特基 二極管 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及氮化鎵半導(dǎo)體器件,尤其是垂直氮化鎵肖特基二極管,形成在絕緣襯底上,隨后剝離。
背景技術(shù)
肖特基二極管是利用金屬接觸半導(dǎo)體層制成的一種半導(dǎo)體器件。金屬和半導(dǎo)體層之間的結(jié)為整流結(jié),其表征是通過自由載流子低于PN結(jié)的能量勢(shì)壘,以及與PN結(jié)中的雙極電流傳導(dǎo)相反的單極電流傳導(dǎo)。就這點(diǎn)來說,肖特基二極管開始電流傳導(dǎo)的正向偏壓小于普通的PN結(jié)二極管,但反向偏壓泄漏電流大于普通的PN結(jié)二極管。由于肖特基二極管為雙極器件,它們的開關(guān)速度通常大于PN結(jié)二極管。肖特基二極管對(duì)于開關(guān)損耗是主要的能耗來源的器件(例如開關(guān)模式電源(SMPS)來說,是非常理想的選擇。
已知許多氮化物化合物半導(dǎo)體材料制成的電子器件。這種電子器件也稱為Ⅲ-氮半導(dǎo)體器件,正如基于Ⅲ族氮材料制成的半導(dǎo)體器件。氮化物化合物半導(dǎo)體器件較寬的帶隙以及較高的擊穿電壓等優(yōu)良特性,使得它們非常適用于高壓和高溫器件。尤其是提出了一種具有高擊穿電壓和低導(dǎo)通電阻的Ⅲ-V氮化鎵化合物半導(dǎo)體肖特基二極管。通過使用Ⅲ-氮半導(dǎo)體肖特基勢(shì)壘二極管,可以提高開關(guān)模式電源的效率。
然而,氮化物半導(dǎo)體肖特基二極管與以硅襯底的肖特基二極管相比,具有明顯的不足。以硅襯底的肖特基二極管采用垂直傳導(dǎo)路徑,而氮化物肖特基二極管經(jīng)常依賴水平傳導(dǎo)路徑。這是因?yàn)椋锇雽?dǎo)體器件通常形成在絕緣襯底和/或絕緣緩沖層上方,絕緣緩沖層外延生長(zhǎng)在導(dǎo)電或非導(dǎo)電襯底上。因此,肖特基二極管的陽極和陰極都形成在器件的頂面上,與襯底相對(duì),形成水平傳導(dǎo)器件。當(dāng)器件正向偏置時(shí),由于正向電流必須流經(jīng)一段相當(dāng)長(zhǎng)的傳導(dǎo)路徑,并且產(chǎn)生非均勻的電流分布,因此帶有水平傳導(dǎo)路徑的肖特基二極管具有較高的接通電阻。
更確切地說,氮化物半導(dǎo)體器件通常作為生長(zhǎng)在襯底材料上的外延層,襯底材料包括硅、藍(lán)寶石、碳化硅以及降壓氮化鎵襯底。雖然在大塊氮化鎵結(jié)晶襯底上生長(zhǎng)氮化鎵層的效果最好,但是降壓氮化鎵襯底所用的材料非常昂貴,大多數(shù)的電子器件使用大塊氮化鎵襯底并不現(xiàn)實(shí)。碳化硅襯底也是如此。同時(shí),盡管硅襯底是成本最低的材料,但是由于氮化鎵外延層和硅襯底之間的晶格失配很顯著,因此在硅襯底上生長(zhǎng)一個(gè)氮化鎵層的所產(chǎn)生的效果很差。
藍(lán)寶石襯底對(duì)于氮化物半導(dǎo)體器件來說,是很好的選擇,其成本較低,大量使用于LED制備和充分的晶格匹配,形成高質(zhì)量的外延層。因此,建立在絕緣藍(lán)寶石襯底上的氮化鎵半導(dǎo)體器件為水平傳導(dǎo)器件或準(zhǔn)垂直傳導(dǎo)器件。在絕緣藍(lán)寶石襯底上制備垂直傳導(dǎo)的氮化鎵器件存在許多困難與挑戰(zhàn)。
此外,可靠的氮化鎵半導(dǎo)體器件需要有效的端接結(jié)構(gòu),降低陽極電極邊緣處的電場(chǎng)擁擠效應(yīng),尤其是高壓器件。傳統(tǒng)的端接結(jié)構(gòu)包括p-型保護(hù)環(huán),在氮化鎵肖特基二極管的陽極端有場(chǎng)板結(jié)構(gòu)。然而,由于氮化物半導(dǎo)體器件本身具有很寬的帶隙,利用傳統(tǒng)的植入和退火工藝,難以形成退火的或激活的p-型區(qū)。因此,用于氮化物半導(dǎo)體器件的傳統(tǒng)的保護(hù)環(huán)結(jié)構(gòu),并不能被激活。
美國(guó)專利號(hào)7,229,866提出了一種在傳導(dǎo)和非傳導(dǎo)襯底上制備氮化鎵肖特基二極管,還提出了使用未激活的保護(hù)環(huán)。制備未激活的保護(hù)環(huán)是通過離子植入到半導(dǎo)體接觸層中,在半導(dǎo)體接觸層中植入?yún)^(qū)并沒有完全退火,植入的粒子未被激活。植入?yún)^(qū)構(gòu)成一個(gè)高阻抗區(qū),嵌入的缺陷密度使運(yùn)行時(shí)的可靠性變差。
發(fā)明內(nèi)容
依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例,垂直傳導(dǎo)的氮化物肖特基二極管包括一個(gè)第一導(dǎo)電類型的氮化物半導(dǎo)體襯底;一個(gè)形成在氮化物半導(dǎo)體襯底正面的第一金屬層,構(gòu)成一個(gè)肖特基結(jié),第一金屬層構(gòu)成肖特基二極管的陽極電極;一個(gè)形成在第一屬層上的第二金屬層;一個(gè)形成在氮化物半導(dǎo)體襯底背面的第三金屬層,第三金屬層同半導(dǎo)體襯底構(gòu)成歐姆接觸,形成肖特基二極管的陰極電極;一個(gè)形成在第二金屬層上的焊錫球;以及一個(gè)形成在氮化物半導(dǎo)體襯底正面的晶圓級(jí)成型層,晶圓級(jí)成型層封裝第二金屬層和至少一部分焊錫球。肖特基二極管具有一個(gè)來自焊錫球的垂直電流通路,穿過陽極電極和肖特基結(jié),一直到陰極電極。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的
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