[發(fā)明專利]除去鍍液中雜質(zhì)的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210441982.9
• 申請日: 2012-09-14
• 公開（公告）號: CN102994985A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 羽切義幸
• 申請（專利權(quán)）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: C23C18/16
• 分類號: C23C18/16
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 江磊

1.一種方法，包括：向含有非離子表面活性劑和硫脲或硫脲化合物的化學(xué)鍍錫液中加入芳族有機(jī)磺酸、其水合物或其鹽，并且通過冷卻生成雜質(zhì)的沉淀物；并且從該化學(xué)鍍錫液中除去該雜質(zhì)的沉淀物。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，還包括使銅或者銅合金接觸化學(xué)鍍錫液以在該銅或銅合金上鍍錫。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，通過固/液分離裝置除去該雜質(zhì)的沉淀物。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，該芳族有機(jī)磺酸或其鹽的含量為5-200g/L。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，該芳族有機(jī)磺酸選自苯酚磺酸、苯磺酸、甲苯磺酸和萘磺酸。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，該雜質(zhì)的沉淀物包含銅、鎳、鋅、鉻、鉬和鎢離子中的一種或者多種。