[發明專利]一種接近式光刻機

有效

• 申請號: 201210434929.6
• 申請日: 2012-11-02
• 公開（公告）號: CN103792794A
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發明（設計）人: 李會麗;張俊;聞人青青;李志丹
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237
• 代理人: 屈蘅;李時云

技術領域

本發明涉及LCD領域，特別涉及一種接近式光刻機。

背景技術

光刻的本質是把制作在掩膜上的圖形復制到以后要進行刻蝕的玻璃基板上。其原理與照相相似，不同的是，玻璃基板與光刻膠代替了照相底片與感光圖層。

一般的光刻制程要經歷玻璃基板表面清洗烘干、涂底、涂布光刻膠、軟烘、對準曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕、等工序。

常見的對準曝光工具有：接觸式光刻機，接近式光刻機，步進掃描光刻機等。

步進掃描光刻機是一種混合設備，融合了掃描投影光刻機和分布重復光刻機技術，是通過使用縮小透鏡掃描一個大曝光場圖像到基板上的一部分實現的。這種技術在一定程度上緩解了器件特征尺寸減小而玻璃基板物理尺寸增加的問題。一束聚焦的狹長光帶同時掃過掩膜版和玻璃基板，一旦掃描和圖形轉移過程結束，玻璃基板就會步進到下一個曝光區域重復這個過程。

接觸式光刻機是曝光時掩模壓在光刻膠的襯底基板上，由于每一次接觸過程中，會在掩模和基板上造成一定的缺陷。因此接觸式光刻機一般用于能容忍較高缺陷水平的器件研究和其它應用領域。

接近式光刻機將掩膜與光刻膠基底層保留一個微小的縫隙，然后進行曝光，如此一來，可以有效避免掩膜與光刻膠基底層直接接觸而引起的掩膜損傷，使掩膜和光刻膠基底能耐久使用。

目前LCD生產制造行業中的彩色濾光片的光刻制程都使用接近式光刻機，其價格遠低于步進掃描光刻機，同時也能滿足彩色濾光片的各項特性規格，所以業界彩色濾光片的光刻制程均采用接近式光刻設備。但實際生產過程中，由于線寬的要求，接近式光刻機的載臺和掩模上彩色濾光片的間隙較小，一般在300um以下，污染和微塵很容易造成掩模缺陷，從而導致彩色濾光片有微觀的缺陷或宏觀的Mura(一種視覺缺陷，表現為色不均引起的視覺上的色差)，嚴重影響良率。同時載臺也經常受光刻室內環境污染、設備磨屑、制程產品攜帶如玻璃碎屑等外來異物，甚至載臺損傷等異常的影響，常導致產品出現宏觀Mura，也會造成良率很大的損失；另外，在實際制造生產過程中，前后不同的彩色濾光片中，位置和形貌相同的共通缺陷和Mura不易界定是掩模或者載臺異常所引起。

此外，目前市場上在售或者相關文獻提及的光刻設備中，均只涉及單獨的掩模缺陷檢查或載臺缺陷檢查的裝置，且掩模缺陷的檢查都還需要提供檢查平臺來進行，裝置成本高，且光刻機的外觀體積和尺寸不易做小。

發明內容

本發明提供了一種接近式光刻機，能夠解決掩模臺或者載臺異常所引起的前后不同彩色濾光片中，位置和形貌相同的共通Mura不易界定的問題。

本發明為解決其技術問題所采用的技術方案在于：

一種接近式光刻機，包括：

光學系統，支架監測裝置、載臺和掩膜臺；其中，

所述支架監測裝置安裝在非生產狀態下的所述載臺的原位區的上方，用于對掩膜臺和/或載臺進行檢查；

所述掩膜臺在所述載臺上方。

在所述的接近式光刻機中，所述接近式光刻機與在線檢查機聯機。

在所述的接近式光刻機中，所述支架監測裝置具有升降和/或在90度范圍內旋轉的能力。

在所述的接近式光刻機中，所述支架監測裝置上設有升降桿，所述升降桿用于升降所述支架監測裝置。

在所述的接近式光刻機中，所述支架監測裝置包括：

掃描拍照裝置，用于掃描缺陷可疑位置并進行拍照比對；

三維支架導桿裝置，包括X、Y、Z三個方向的支架導桿，用于攜帶所述掃描拍照裝置；及夾子，用于夾持掩膜。

在所述的接近式光刻機中，所述掃描拍照裝置按所述Z向在180度范圍內旋轉。

在所述的接近式光刻機中，所述掃描拍照裝置的光源為LED光源。

在所述的接近式光刻機中，所述夾子包含真空吸附孔和有機材質。

在所述的接近式光刻機中，所述掃描拍照裝置和三維支架導桿裝置包含雙面結構。

在所述的接近式光刻機中，所述接近式光刻機的光源為汞燈源。

實施本發明的一種接近式光刻機，具有以下有益效果：所述支架監測裝置能夠實現載臺和掩膜臺共用，分別檢查載臺和掩膜臺，以解決前后不同彩色濾光片中，位置和形貌相同的共通缺陷和Mura是由掩膜臺異常還是載臺異常所引起的問題。本發明使得接近式光刻機功能更齊全，自動化程度更高，能夠減少人員進出高潔凈度的機臺內部，充分利用了機臺內部空間。

附圖說明

下面將結合附圖及實施例對本發明作進一步說明，附圖中：