[發(fā)明專利]一種高效環(huán)保選擇性吸收涂層及其制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210434844.8 | 申請日： | 2012-11-03 |
| 公開（公告）號： | CN102901256A | 公開（公告）日： | 2013-01-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 劉小軍;湯立文;曾正春 | 申請（專利權(quán)）人： | 湖南興業(yè)太陽能科技有限公司 |
| 主分類號： | F24J2/48 | 分類號： | F24J2/48;B32B15/04;B32B33/00;C23C28/00 |
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| 地址： | 411201 湖*** | 國省代碼： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 高效 環(huán)保 選擇性 吸收 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種高效環(huán)保選擇性吸收涂層，其特征在于：涂層結(jié)構(gòu)由內(nèi)到外依次為：基體層、反射層、中間介質(zhì)層、半透明金屬層、表面介質(zhì)層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高效環(huán)保選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的基體層為Al、鋁合金、Cu、銅合金或各類鋼材。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高效環(huán)保選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的反射層為Al或Cu，厚度為30~60nm。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高效環(huán)保選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的中間介質(zhì)層和表面介質(zhì)層為Si與N的反應(yīng)沉積物，厚度為50～90nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高效環(huán)保選擇性吸收涂層，其特征在于：所述的半透明金屬層為金屬Cr涂層,沉積厚度為5～30nm。
6.一種高效環(huán)保選擇性吸收涂層的制備方法，其特征在于：
（1）采用鋁基材、銅基材或不銹鋼卷材做基體層，經(jīng)過清洗、烘干處理，待用；
（2）采用物理氣相沉積方法、化學(xué)氣相沉積方法，抽真空，依次經(jīng)過Al靶、Si靶、Cr靶、Si靶材，并依次均勻通入高純度Ar或Ar+N2氣體，通過調(diào)整功率和氣體濃度，在基體層形成反射層/介質(zhì)層/半透明金屬層/介質(zhì)層的涂層。
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