[發明專利]基底處理裝置和方法

有效

• 申請號: 201210421238.2
• 申請日: 2008-10-31
• 公開（公告）號: CN102945816A
• 公開（公告）日: 2013-02-27
• 發明（設計）人: 柳寅喆
• 申請（專利權）人: 細美事有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;G03F7/16
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 陳桂香;褚海英

1.一種基底處理裝置，其包括：

支承基底的基底支承構件；

噴嘴臂，其具有把光致抗蝕劑液排放到上述基底上的多個光致抗蝕劑液噴嘴；以及

等待口，安裝在上述噴嘴臂中的上述多個噴嘴在該等待口中等待執行各個處理過程，該等待口設置在上述基底支承構件的側面部分；

其特征在于，上述等待口包括：

具有敞開頂部的殼體，該殼體為容納上述多個噴嘴提供空間；以及

有機溶劑供應構件，與容納在上述殼體中的上述多個光致抗蝕劑液噴嘴一一對應，該有機溶劑供應構件把有機溶劑供應到從上述相應的光致抗蝕劑液噴嘴選出來的光致抗蝕劑液噴嘴的前端。

2.如權利要求1所述的基底處理裝置，其特征在于，上述溫度控制構件包括：

溫度控制流體排放管，其與上述噴嘴臂的主體的內壁和上述化學品液管之間的空間連通；

溫度控制流體供應管，其把溫度控制流體供應到上述主體的內壁和上述化學品液管之間的空間中；以及

溫度控制流體排放管道，其連接在上述溫度控制流體排放管上。

3.如權利要求1所述的基底處理裝置，其特征在于，

上述多個噴嘴包括排放光致抗蝕劑液的光致抗蝕劑液噴嘴，

且上述化學品液管包括把光致抗蝕劑液供應給上述光致抗蝕劑液噴嘴的光致抗蝕劑液管。

4.如權利要求3所述的基底處理裝置，其特征在于，

上述多個噴嘴還包括有機溶劑噴嘴，該有機溶劑噴嘴排放用于執行預濕潤工序的有機溶劑；

且上述化學品液管還包括把有機溶劑供應給上述有機溶劑噴嘴的有機溶劑管。

5.如權利要求4所述的基底處理裝置，其特征在于，該基底處理裝置還包括：

把有機溶劑源連接在所述有機溶劑管上的有機溶劑供應管道；以及

設置在上述有機溶劑供應管道中的抽吸構件，該抽吸構件向所述有機溶劑噴嘴提供負壓。

6.如權利要求1所述的基底處理裝置，其特征在于，上述多個噴嘴包括：

排放光致抗蝕劑液的光致抗蝕劑液噴嘴；以及

排放用來執行預濕潤工序的有機溶劑的有機溶劑噴嘴。

7.如權利要求3所述的基底處理裝置，其特征在于，

上述殼體具有下凹形狀的噴嘴容納空間，所有的上述多個光致抗蝕劑液噴嘴都容納在這個空間中；

且上述有機溶劑供應構件具有直接和獨立地把有機溶劑供應到上述各光致抗蝕劑液噴嘴的前端的有機溶劑供應通道。

8.如權利要求7所述的基底處理裝置，其特征在于，

上述殼體具有多個下凹形狀的噴嘴容納空間，上述多個光致抗蝕劑液噴嘴分別容納在這些空間中；

且上述有機溶劑供應構件具有獨立地把有機溶劑供應到上述各噴嘴容納空間中的多個有機溶劑供應通道。

9.如權利要求8所述的基底處理裝置，其特征在于，上述殼體有排放儲存在上述噴嘴容納空間中的有機溶劑的排放管道。

10.如權利要求6所述的基底處理裝置，其特征在于，

上述基底處理裝置還包括安裝在上述噴嘴臂中、并用于排放用于執行預濕潤工序的有機溶劑的有機溶劑噴嘴；

上述殼體具有多個下凹形狀的噴嘴容納空間，上述多個光致抗蝕劑液噴嘴和有機溶劑噴嘴分別容納在這些空間中；

且上述有機溶劑供應構件具有獨立地把有機溶劑供應到上述各個容納了多個光致抗蝕劑液噴嘴的噴嘴容納空間中的多個有機溶劑供應通道。

11.如權利要求6所述的基底處理裝置，其特征在于，該基底處理裝置還包括設置在上述等待口一側的儲存口，該儲存口為儲存安裝在上述噴嘴臂中的噴嘴提供空間。

12.如權利要求11所述的基底處理裝置，其特征在于，

上述噴嘴臂設有多根；

并且上述等待口和儲存口也設置了多個，使一個口與一根噴嘴臂相對應。

13.如權利要求11所述的基底處理裝置，其特征在于，上述儲存口包括：

具有敞開的頂部的殼體，這個殼體為容納上述噴嘴提供了下凹形狀的噴嘴容納空間；以及

把有機溶劑供應到上述噴嘴容納空間中的有機溶劑供應構件。