[發明專利]導電性保護膜、轉印部件、處理盒和圖像形成裝置有效
| 申請號: | 201210421152.X | 申請日: | 2012-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN103309213A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發明(設計)人: | 鳥越薰;穴澤一則 | 申請(專利權)人: | 富士施樂株式會社 |
| 主分類號: | G03G15/16 | 分類號: | G03G15/16;G03G21/18;G03G15/00;H01B5/14;C08L75/04;C08K3/22;C08K7/08 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香蘭;龐東成 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導電性 保護膜 部件 處理 圖像 形成 裝置 | ||
1.一種導電性保護膜,所述導電性保護膜包含:
樹脂和作為導電性材料的具有結構化構造的無機金屬氧化物或具有約10以上的縱橫比的無機金屬氧化物,所述縱橫比是長軸和短軸之間的比。
2.如權利要求1所述的導電性保護膜,
其中,所述無機金屬氧化物的含量相對于所述樹脂的重量為約10體積%至約40體積%,所述導電性保護膜的表面電阻率為約108Ω·cm至約1014Ω·cm。
3.如權利要求1所述的導電性保護膜,
其中,所述樹脂是通過含羥基的丙烯酸樹脂、具有多個羥基的多元醇和異氰酸酯的聚合而形成的聚氨基甲酸酯樹脂,所述含羥基的丙烯酸樹脂中具有10個以上碳原子的側鏈羥基與具有少于10個碳原子的側鏈羥基的含量比(摩爾比)約小于1/3;所述具有多個羥基的多元醇中羥基通過具有6個以上碳原子的碳鏈連接;并且所述多元醇中所含的羥基的總摩爾量(B)與所述丙烯酸樹脂中所含的羥基的總摩爾量(A)之比(B/A)為約0.1至約10。
4.如權利要求2所述的導電性保護膜,
其中,所述樹脂是通過含羥基的丙烯酸樹脂、具有多個羥基的多元醇和異氰酸酯的聚合而形成的聚氨基甲酸酯樹脂,所述含羥基的丙烯酸樹脂中具有10個以上碳原子的側鏈羥基與具有少于10個碳原子的側鏈羥基的含量比(摩爾比)約小于1/3;所述具有多個羥基的多元醇中羥基通過具有6個以上碳原子的碳鏈連接;并且所述多元醇中所含的羥基的總摩爾量(B)與所述丙烯酸樹脂中所含的羥基的總摩爾量(A)之比(B/A)為約0.1至約10。
5.如權利要求1所述的導電性保護膜,
其中,所述聚氨基甲酸酯樹脂包含硅原子和氟原子中的至少一種。
6.如權利要求2所述的導電性保護膜,
其中,所述聚氨基甲酸酯樹脂包含硅原子和氟原子中的至少一種。
7.一種轉印部件,所述轉印部件包含權利要求1所述的導電性保護膜。
8.一種處理盒,所述處理盒包含權利要求7所述的轉印部件。
9.一種圖像形成裝置,所述圖像形成裝置包含權利要求7所述的轉印部件。
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