[發明專利]X射線計算斷層成像掃描儀、劑量計算方法以及程序有效
| 申請號: | 201210416320.6 | 申請日: | 2012-10-26 |
| 公開(公告)號: | CN103083032B | 公開(公告)日: | 2017-07-18 |
| 發明(設計)人: | 貫井正健 | 申請(專利權)人: | GE醫療系統環球技術有限公司 |
| 主分類號: | A61B6/03 | 分類號: | A61B6/03;H05G1/26 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 段俊峰,李浩 |
| 地址: | 美國威*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 射線 計算 斷層 成像 掃描儀 劑量 計算方法 以及 程序 | ||
1.一種X射線CT設備,包括:
獲取裝置,配置為通過在執行主掃描之前對成像目標執行預掃描來獲取表示所述成像目標的斷層成像圖像的數據;
設置裝置,配置為設置用于所述成像目標的所述主掃描的設定X射線管電壓和設定X射線劑量;
估計裝置,配置為將與轉換為對象的截面面積的值對應的指標估計為所述成像目標的截面面積,其中該對象由丙烯酸系樹脂制成,以便在以所述設定X射線管電壓執行輻射從預定參考劑量定義的X射線的掃描的情況下、該對象提供相等劑量;
指定裝置,配置為基于所述指標和在以所述設定X射線管電壓執行輻射從所述預定參考劑量定義的X射線的掃描的情況下的劑量之間的關系來指定對應于所述指標的劑量;以及
計算裝置,配置為將所述參考劑量乘以與設定劑量有關的因數再乘以增益,針對在以所述設定X射線管電壓和設定X射線劑量執行所述主掃描的情況計算用于所述成像目標的曝光劑量,
其中,所述估計裝置配置為通過使用以下式子來估計所述指標:
所述指標 = Σ[(imgij+1000)/a],
其中,imgij表示所述斷層成像圖像中的每個像素的CT值,參數a被用于CT值調整并隨著所述設定X射線管電壓和包含在用于所述預掃描的掃描條件中的另一設定X射線管電壓而變。
2.根據權利要求1所述的X射線CT設備,
其中,所述指標是與成像目標的斷層成像圖像相關聯的總標準化像素值。
3.根據權利要求1所述的X射線CT設備,
其中,所獲得的數據是從所述成像目標上的螺旋定位掃描和軸向定位掃描中的一個獲得的。
4.根據權利要求1所述的X射線CT設備,
其中,所述計算裝置配置為將所指定的劑量與用來根據需要調整所計算的劑量值的增益相乘,再與從所述設定X射線劑量除以所述預定參考劑量獲得的值相乘來計算用于所述成像目標的曝光劑量。
5.根據權利要求4所述的X射線CT設備,
其中所述增益被確定為減小由該X射線CT掃描計算的劑量與在相同的條件下由另一X射線CT掃描計算的劑量之間的差。
6.根據權利要求1所述的X射線CT設備,
其中,所獲得的數據是從所述成像目標的X射線CT過去掃描獲得的。
7.根據權利要求1所述的X射線CT設備,
其中,所述關系是從每個具有不同直徑的多個柱狀體模上執行的X射線CT實際掃描獲得的。
8.一種X射線CT設備,包括:
獲取裝置,配置為通過在執行主掃描之前對成像目標執行預掃描來獲取表示所述成像目標的斷層成像圖像的數據;
設置裝置,配置為設置用于所述成像目標的所述主掃描的設定X射線管電壓和設定X射線劑量;
估計裝置,配置為估計在所述設定X射線管電壓執行輻射從預定參考劑量定義的X射線的掃描的情況下對應于重構的圖像上的圖像噪聲水平的指標,所述估計裝置配置為基于設定管電壓KV、定位掃描條件SC以及定位數據SD而使用CT自動暴露控制(CT-AEC)的功能來估計所述指標;
指定裝置,配置為基于所述指標和在以所述設定X射線管電壓執行輻射從所述預定參考劑量定義的X射線的掃描的情況下的劑量之間的關系來指定對應于所述指標的劑量;以及
計算裝置,配置為將所述參考劑量乘以與設定劑量有關的因數再乘以增益,針對在以所述設定X射線管電壓和設定X射線劑量執行所述主掃描的情況計算用于所述成像目標的曝光劑量。
9.根據權利要求8所述的X射線CT設備,
其中,所獲得的數據是從所述成像目標上執行的定位掃描獲得的。
10.根據權利要求8所述的X射線CT設備,
其中,所述計算裝置配置為將所指定的劑量與用來根據需要調整所計算的劑量值的增益相乘,再與從所述設定X射線劑量除以所述預定參考劑量獲得的值相乘來計算用于所述成像目標的曝光劑量。
11.根據權利要求10所述的X射線CT設備,
其中所述增益被確定為減小由該X射線CT掃描計算的劑量與在相同的條件下由另一X射線CT掃描計算的劑量之間的差。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于GE醫療系統環球技術有限公司,未經GE醫療系統環球技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210416320.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





