[發(fā)明專利]平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210407660.2
• 申請日: 2012-10-23
• 公開（公告）號: CN102866497A
• 公開（公告）日: 2013-01-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 莊須葉;張建飛;姚軍;邱傳凱;周崇喜
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所
• 主分類號: G02B26/00
• 分類號: G02B26/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 梁愛榮

1.一種平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：包括：微橋部、光柵、基底、多個下電極、第一絕緣層、第二絕緣層、前腔面、后腔面、橋面和兩個矩形孔，其中：

微橋部，具有一橋面，橋面作為法布里珀羅腔的上電極；

光柵，位于微橋部的橋面的中央處，并集成在一起；

基底，作為最下層；

多個下電極，平行對稱的分布在微橋部的下面，分別固定在第一絕緣層和第二絕緣層上面；

第一絕緣層和第二絕緣層，覆蓋在基底之上；

前腔面，位于光柵的區(qū)域所對應(yīng)橋面的下表面，形成法布里珀羅腔可動腔面；

后腔面，位于光柵正下方的在第一絕緣層和第二絕緣層之間的基底的上表面，用作法布里珀羅腔的后腔面；通過在多個下電極和上電極之間加入不同的電壓，在上電極、多個下電極之間形成復(fù)雜的靜電場，使法布里珀羅腔的可動腔面在向下移動的過程中，同時調(diào)整可動腔面的形貌，用于動態(tài)調(diào)整法布里珀羅腔前腔面與后腔面之間的平行度。

2.如權(quán)利要求1所述的平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：用第一絕緣層和第二絕緣層在基底上阻隔形成法布里珀羅腔的后腔面，其材料為二氧化硅或者氮化硅。

3.如權(quán)利要求1所述的平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：所述每個下電極的材料為金屬鋁摻雜多晶硅或其他金屬材料，每個下電極長×寬×高的尺寸選值如下范圍：長為200μm-350μm，寬為50μm-80μm，高為0.1μm-1.5μm。

4.如權(quán)利要求1所述的平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：所述光柵尺寸選值范圍：長為200μm-350μm，寬為100μm-250μm，刻蝕深度為300nm-550nm。

5.如權(quán)利要求1所述的平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：所述橋面作為法布里珀羅腔的上電極為可動電極，又是法布里珀羅腔的一個腔體的面板。

6.如權(quán)利要求1所述平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：所述光柵刻蝕在微橋部的橋面上，或刻蝕在基底上。

7.如權(quán)利要求1所述平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：位于光柵下方的基底的上表面部分作為后腔面，基底其余部分上表面的覆蓋第一絕緣層和第二絕緣層，所述后腔面是固定腔面。

8.如權(quán)利要求1所述平行度可調(diào)的微機(jī)電系統(tǒng)法布里珀羅腔波長可調(diào)諧濾波器，其特征在于：所述法布里珀羅腔的下電極的數(shù)量大于2個，其分布方式是以均勻分布或隨機(jī)分布。