[發(fā)明專利]一種晶體硅太陽(yáng)能電池RIE制絨裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210403646.5 | 申請(qǐng)日: | 2012-10-22 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102903796A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李秉霖;姜言森;任現(xiàn)坤;張春艷;程亮;賈河順;馬繼磊;孫繼峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 山東力諾太陽(yáng)能電力股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;C30B33/12 |
| 代理公司: | 濟(jì)南舜源專利事務(wù)所有限公司 37205 | 代理人: | 宋玉霞 |
| 地址: | 250103 山東省濟(jì)*** | 國(guó)省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 晶體 太陽(yáng)能電池 rie 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于晶體硅太陽(yáng)能電池制絨設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種晶體硅太陽(yáng)能電池RIE制絨裝置。
背景技術(shù)
太陽(yáng)能作為一種綠色能源,以其取之不竭、無(wú)污染、不受地域資源限制等優(yōu)點(diǎn)越來(lái)越受到人們的重視。在太陽(yáng)電池的研制歷程中曾使用過(guò)各種半導(dǎo)體,硅是其中最重要的一種。按豐度排列.硅是地球上第二大元素。硅是單元素半導(dǎo)體,無(wú)毒,廢棄硅對(duì)環(huán)境沒(méi)有污染。因此硅至今仍是太陽(yáng)電池的最佳選用材料。
在太陽(yáng)能電池的制造工藝流程中,RIE制絨逐漸成為降低晶體硅表面反射率,提高陷光效果的重要方法,尤其是在多晶硅方面,大大的減少了硅的表面反射率,提高了電池的轉(zhuǎn)化效率。但是,在后續(xù)電池可靠性方面,電池主柵的焊接拉力也隨著降低。這樣,在一定程度上增加組件的串聯(lián)電阻,降低組件效率和功率,在后期的組件穩(wěn)定性留下了隱患。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)上述存在的問(wèn)題而提供的一種晶體硅太陽(yáng)能電池RIE制絨裝置,該裝置可控性好,靈活性高,適用于晶體硅太陽(yáng)能電池的工業(yè)化生產(chǎn)。
本發(fā)明的一種晶體硅太陽(yáng)能電池RIE制絨裝置采用的技術(shù)方案為:包括反應(yīng)室、氣體管道、噴淋裝置和反應(yīng)離子擋板,其中,噴淋裝置位于反應(yīng)室的頂部,反應(yīng)氣體通過(guò)氣體管道由噴淋裝置進(jìn)入反應(yīng)室,氣體管道上設(shè)置有流量控制器;在硅片的制絨過(guò)程中,在硅片正面上方添加反應(yīng)離子擋板,通過(guò)控制反應(yīng)離子檔板的位置,實(shí)現(xiàn)電池主柵區(qū)域未制絨的效果。
所述的反應(yīng)離子擋板位于電池正面上方0-100cm。
所述的反應(yīng)離子擋板位于電池正面上方0.01-10cm。
反應(yīng)離子擋板位于硅片正面電池主柵區(qū)域正上方,形狀與電池主柵區(qū)域的形狀一致。反應(yīng)離子擋板的寬度為0-30cm;所述的反應(yīng)離子擋板的寬度優(yōu)選為0.01-5cm。
應(yīng)離子擋板為至少一個(gè),反應(yīng)離子擋板之間相互平行。
反應(yīng)離子擋板由耐腐蝕材料制成。反應(yīng)離子擋板優(yōu)選由石墨制成;或者是由耐腐蝕的陶瓷材料、金屬材料或高分子材料的其中一種或幾種制成。
本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明的一種晶體硅太陽(yáng)能電池RIE制絨裝置包括反應(yīng)室、氣體管道、噴淋裝置,噴淋裝置位于反應(yīng)室的頂部,反應(yīng)氣體通過(guò)氣體管道由噴淋裝置進(jìn)入反應(yīng)室,氣體管道上設(shè)置有流量控制器,反應(yīng)室中還設(shè)有反應(yīng)離子擋板,置于需制絨硅片的正面上方。該裝置可控性好,靈活性高,能夠準(zhǔn)確地在硅片電池主柵區(qū)域以外的區(qū)域制絨,實(shí)現(xiàn)電池主柵區(qū)域未制絨的效果,適用于晶體硅太陽(yáng)能電池的工業(yè)化生產(chǎn)。另外,多個(gè)反應(yīng)離子擋板的設(shè)計(jì)可以更好的適應(yīng)產(chǎn)線工藝的變更。采用該裝置制備的晶體硅太陽(yáng)能電池可以改善其焊接拉力,提高組件性能的穩(wěn)定性以及轉(zhuǎn)化效率。
附圖說(shuō)明:
圖1所示為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2所示為本發(fā)明實(shí)施效果圖。
圖中,1.反應(yīng)室,2.?氣體管道,3.噴淋裝置,?4.反應(yīng)離子擋板,5.?流量控制器,6.硅片,?7.?電池主柵區(qū)域。
具體實(shí)施方式:
為了更好地理解本發(fā)明,下面結(jié)合附圖和實(shí)例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案,但是本發(fā)明并不局限于此。
一種晶體硅太陽(yáng)能電池RIE制絨裝置,包括反應(yīng)室1、氣體管道2、噴淋裝置3和反應(yīng)離子擋板4,其中,噴淋裝置3位于反應(yīng)室1的頂部,反應(yīng)氣體通過(guò)氣體管道2由噴淋裝置3進(jìn)入反應(yīng)室1,氣體管道2上設(shè)置有流量控制器5;在硅片6的制絨過(guò)程中,在硅片6正面上方添加反應(yīng)離子擋板4,通過(guò)控制反應(yīng)離子檔板4的位置,實(shí)現(xiàn)電池主柵區(qū)域7未制絨的效果。
所述的反應(yīng)離子擋板4位于硅片6正面上方0-100cm。
所述的反應(yīng)離子擋板4位于硅片6正面上方0.01-10cm。
反應(yīng)離子擋板4位于硅片正面電池主柵區(qū)域7正上方,形狀與電池主柵區(qū)域7的形狀一致。反應(yīng)離子擋板4的寬度為0-30cm;所述的反應(yīng)離子擋板4的寬度優(yōu)選為0.01-5cm。
所述的反應(yīng)離子擋板4為至少一個(gè),而且多個(gè)反應(yīng)離子擋板4之間相互平行。
反應(yīng)離子擋板4由耐腐蝕材料制成。反應(yīng)離子擋板4優(yōu)選由石墨制成,或者是由耐腐蝕的陶瓷材料、金屬材料或高分子材料的其中一種或幾種制成。
采用該裝置制備的晶體硅太陽(yáng)能電池可以改善其焊接拉力,提高組件性能的穩(wěn)定性以及轉(zhuǎn)化效率。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





