[發明專利]一種基板清洗設備及基板清洗系統

有效

• 申請號: 201210391220.2
• 申請日: 2012-10-15
• 公開（公告）號: CN102896104A
• 公開（公告）日: 2013-01-30
• 發明（設計）人: 劉聰聰;金相旭;張建政;徐濤;程晉燕;朱建濤
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;合肥京東方光電科技有限公司
• 主分類號: B08B3/08
• 分類號: B08B3/08;B08B3/10;B08B13/00
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示器制造領域，尤其涉及一種基板清洗設備及基板清洗系統。

背景技術

在TFT-LCD(Thin?Film?Transistor-Liquid?Crystal?Display，薄膜晶體管液晶顯示器)的制造過程中，清洗設備需要對進行光刻技術前的基板(即涂覆光刻膠之前的基板)進行清洗，以去除基板表面的雜質。

當前基板清洗的過程中，往往采用兩臺基板清洗設備交替工作的方式進行基板清洗。在兩臺基板清洗設備上分別設定好清洗周期、清洗數量后，兩臺設備輪流定時進行重置。其中，“重置”是指基板清洗設備排出廢液，重新向清洗箱加入清洗液并加熱的過程。清洗液由洗滌劑和水混合而成，清洗液溫度通常需要達到43℃。

但是，在實際的基板清洗過程中，第一臺基板清洗設備先進行清洗，基板位于基板清洗設備上面的流水線上，基板清洗設備通過內部設置的抽水裝置將清洗液抽上去，再由基板清洗設備的噴灑裝置向流水線上的基板噴灑清洗液，以清洗基板。隨著流片的進行(“流片”是指基板通過流水線的運輸經過基板清洗設備清洗的過程)，基板會帶走部分清洗液，導致在清洗基板的數量還沒有達到第一臺基板清洗設備預設數量時，清洗液就已經低于液位底線。這時，第一臺基板清洗設備需要將清洗液補充滿并且重新重置。第一臺基板清洗設備進行重置時，第二臺基板清洗設備進行基板清洗。當第一臺基板清洗設備重置完成后，再切換回第一臺基板清洗設備進行基板清洗。這時，由于第一臺基板清洗設備已經清洗了一定數量的基板，因此，當第一臺基板清洗設備達到設定好的清洗數量后，第一臺基板清洗設備會排掉所有的清洗液，補充新的清洗液，這一過程造成了清洗液的極大浪費，同時重置會浪費大量時間。此外，若第一臺基板清洗設備和第二臺基板清洗設備同時重置，就會導致死機，則流水線上沒有基板清洗設備進行工作，影響清洗效率。

發明內容

本發明的實施例提供一種基板清洗設備及基板清洗系統，能夠適應性通過補液單元向清洗單元補給清洗液，節省清洗液，縮短基板清洗設備重置的時間，避免流水線上由于兩臺基板清洗設備同時重置而引起的死機問題。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案：

一方面，本發明實施例提供一種基板清洗設備，包括：

相互連通的清洗單元和補液單元；

設置于所述清洗單元和所述補液單元之間的，用于控制液體流動的補液控制裝置；

與所述補液控制裝置連接，控制所述補液控制裝置動作的控制器；

其中，所述清洗單元，用于存儲清洗液對所述基板進行清洗；

所述補液單元，用于存儲所述清洗液向所述清洗單元補充清洗液；

所述控制器，通過控制所述補液控制裝置的動作，控制所述清洗液在所述補液單元和所述清洗單元之間的流動。

所述控制器，具體用于：當所述清洗單元中所述清洗液的液面高度低于預設高度時，調節所述補液控制裝置，以使得所述補液單元向所述清洗單元補給所述清洗液。

所述控制器，具體用于：當所述清洗單元中所述清洗液的液面高度低于預設高度時，根據已清洗的基板的數量和預設數量的差值，調節所述補液控制裝置，以使得所述補液單元向所述清洗單元補給相應的所述清洗液。

所述控制器還用于，控制所述補液控制裝置，隔斷清洗液在所述清洗單元與補液單元之間的流動。

所述清洗單元和所述補液單元腔體相通；

所述補液控制裝置包括：設置在所述清洗單元和所述補液單元之間的可移動的隔液門。

所述隔液門，具體用于通過所述隔液門的上升或下降，控制所述清洗液在所述補液單元和所述清洗單元之間的流動。

所述清洗液是由洗滌劑和水混合而成的。

所述基板清洗設備，還包括與所述清洗單元均連接的洗滌劑管道、注水管道、排水管道以及洗液回流管道，其中，

所述洗滌劑管道，用于向所述清洗單元和補液單元內注入所述洗滌劑；

所述注水管道，用于向所述清洗單元和補液單元內注入所述水；

所述排水管道，用于排出所述清洗單元內的所述清洗液；

所述洗液回流管道，用于使得進行基板清洗后的所述清洗液回流入所述清洗單元。

所述基板清洗設備，還包括：設置于所述清洗單元中的第一加熱裝置和第一液位傳感器，其中，

所述第一加熱裝置，用于加熱所述清洗單元內的所述清洗液；

所述第一液位傳感器，用于檢測所述清洗單元內的所述清洗液的液面高度。