[發明專利]轉印用基板和有機電致發光元件的制造方法

無效

• 申請號: 201210390089.8
• 申請日: 2008-08-18
• 公開（公告）號: CN102891267A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發明（設計）人: 松波成行;鬼島靖典
• 申請（專利權）人: 索尼株式會社
• 主分類號: H01L51/56
• 分類號: H01L51/56
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 賈靜環

1.一種轉印層，所述轉印層形成在光熱轉化層上，所述光熱轉化層形成在透光性支撐基板上；

其中所述轉印層被轉印作為有機電致發光元件的發光層并且由芳族烴形成。

2.權利要求1的轉印層，其中所述轉印層由金屬配合物形成。

3.權利要求1或2的轉印層，其中所述轉印層由熒光摻雜劑形成。

4.權利要求1~3中任一項的轉印層，其中所述芳族烴其母體骨架具有4~7個環。

5.權利要求2~4中任一項的轉印層，其中所述金屬配合物為羥基喹啉與選自鋁、鎵和銦中的金屬配位結合的配合物。

6.權利要求1的轉印層，其中在所述轉印層中所述芳族烴的用量不大于50wt%。

7.權利要求3的轉印層，其中所述轉印層具有疊層結構，所述疊層結構包括所述金屬配合物和所述熒光摻雜劑形成的混合層以及所述芳族烴形成的層。

8.權利要求3的轉印層，其中所述轉印層具有疊層結構，所述疊層結構包括所述金屬配合物形成的層、所述熒光摻雜劑形成的層、所述芳族烴形成的層。

9.權利要求3的轉印層，其中所述熒光摻雜劑由綠色發光材料或紅色發光材料制成。

10.一種制造有機電致發光元件的方法，所述方法包括下述步驟：

在器件基板上形成下部電極圖案；

在所述下部電極上形成至少包括發光層的有機層；和

形成經過所述有機層層疊在所述下部電極上的上部電極，

其中所述發光層如下形成：

提供透光性支撐基板上，并且在透光性支撐基板上順次形成光熱轉化層和轉印層，并且所述轉印層由芳族烴形成，

將所述轉印層與所述器件基板相對放置，以及

通過從所述支撐基板一側照射光束使所述轉印層轉印，以將所述轉印層轉印到所述器件基板上。

11.權利要求10的方法，其中所述轉印層由金屬配合物形成。

12.權利要求10或11的方法，其中所述轉印層由熒光摻雜劑形成。

13.權利要求10~12中任一項的方法，其中所述芳族烴其母體骨架具有4~7個環。

14.權利要求11~13中任一項的方法，其中所述金屬配合物為羥基喹啉與選自鋁、鎵和銦中的金屬配位結合的配合物。

15.權利要求10的方法，其中在所述轉印層中所述芳族烴的用量不大于50wt%。

16.權利要求12的方法，其中所述轉印層具有疊層結構，所述疊層結構包括所述金屬配合物和所述熒光摻雜劑形成的混合層以及所述芳族烴形成的層。

17.權利要求12的方法，其中所述轉印層具有疊層結構，所述疊層結構包括所述金屬配合物形成的層、所述熒光摻雜劑形成的層、所述芳族烴形成的層。

18.權利要求12的方法，其中所述熒光摻雜劑由綠色發光材料或紅色發光材料制成。